[发明专利]利用至少两个波长的光刻系统的对准系统和方法有效
| 申请号： | 03164858.4 | 申请日： | 2003-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN1495540A | 公开（公告）日： | 2004-05-12 |
| 发明（设计）人： | R·纳瓦罗科伦;G·西蒙斯;A·B·约伊宁克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20;H01L21/027;H01L21/68 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 章社杲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于光刻装置的利用至少两个波长的对准系统，包括：具有第一波长和第二波长的对准辐射源；具有第一波长通道和第二波长通道的检测系统，第一波长通道接收所述对准标记第一波长处的对准辐射，第二波长通道接收来自所述对准标记第二波长处的对准辐射；以及与所述检测系统相联系的定位单元，所述定位单元处理来自所述第一及第二波长通道的组合信息，从而以来自所述第一波长通道的信息，来自所述第二波长通道的信息以及来自所述第一和第二波长通道的组合信息中之一为基础，根据在所述第一波长处检测到的所述对准辐射相对于在所述第二波长处检测到的对准辐射的相对强度来确定所述对准标记的位置。还包括其对准方法。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 至少 两个 波长 光刻 系统 对准 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于光刻装置的对准系统，包括：具有第一波长和第二波长的对准辐射源；检测系统，包括第一波长通道和第二波长通道，设置第一波长通道接收所述对准标记第一波长处的对准辐射，设置第二波长通道接收来自所述对准标记第二波长处的对准辐射；以及定位单元，与所述检测系统相联系，其中所述定位单元处理来自所述第一及第二波长通道的组合信息，从而以来自所述第一波长通道的信息，来自所述第二波长通道的信息以及来自所述第一和第二波长通道的组合信息中之一为基础，根据在所述第一波长处检测到的所述对准辐射相对于在所述第二波长处检测到的对准辐射的相对强度来确定所述对准标记的位置。
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