[发明专利]固定薄膜溅射用衬底的装置及用此装置来固定衬底的方法有效
申请号: | 03142457.0 | 申请日: | 2003-06-02 |
公开(公告)号: | CN1462160A | 公开(公告)日: | 2003-12-17 |
发明(设计)人: | 姜敞皓;张容源;金兑承 | 申请(专利权)人: | 三星日本电气移动显示株式会社 |
主分类号: | H05B33/10 | 分类号: | H05B33/10;C23C14/34 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 章社杲 |
地址: | 韩国蔚山*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 一种用于固定薄膜溅射用衬底的装置,包括掩膜、掩膜压板、磁体和驱动单元。具有图案的掩膜位于衬底下方,以便在衬底上形成图案。掩膜压板位于衬底之上并以预定的压力朝向衬底背面运动并与之接触。磁体位于掩膜压板的上方并朝向掩膜压板运动,从而可通过磁体的磁力而使掩膜紧密地粘附在衬底上。驱动单元施加驱动力以移动磁体。当掩膜压板下降时,掩膜压板紧密地粘附在衬底上。之后,磁体朝向衬底背面下降,衬底由掩膜压板支撑。衬底下方的掩膜通过磁体的磁力而紧密地粘附在衬底的正面上。因此,由于衬底被多级式地支撑,掩膜在衬底下方的对齐不会发生错位。 | ||
搜索关键词: | 固定 薄膜 溅射 衬底 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于将衬底相对于位于所述衬底下方的掩膜固定的装置,所述装置包括:掩膜压件,其位于所述衬底上方并以预定压力朝向所述衬底运动且与之接触;磁体,其位于所述掩膜压件的上方并朝向所述掩膜压件运动,从而利用所述磁体的磁力使所述掩膜粘附在所述衬底上;和可使所述磁体运动的驱动单元。
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