[发明专利]使用两件式盖子保护模版的系统和方法有效
| 申请号： | 03142306.X | 申请日： | 2003-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN1456938A | 公开（公告）日： | 2003-11-19 |
| 发明（设计）人： | 圣地亚哥·E·德尔·普埃尔托;埃里克·R·卢普斯特拉;安德鲁·马萨尔;杜安·P·基什;阿卜杜拉·阿里汗;伍德罗·J·奥尔松;乔纳森·H·费罗斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20;G03F1/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 朱德强 |
| 地址： | 荷兰费尔*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于保护掩模不被空载的颗粒污染的系统和方法。它们包括提供一个固定在两件式盖子中的模版。该两件式盖子包括用于保护颗粒不受污染的可除去保护部分。该盖子可以保持在用于将盖子从大气部分向真空部分传送通过光刻系统的吊舱或者盒子内。在真空部分，在晶片上形成模版上的图案的曝光过程中移动该可除去的盖子。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 两件式 盖子 保护 模版 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种系统，包括：一模版；以及一与该模版连接的盖子，用于保护模版，该盖子包括：一框架；以及一可除去面板，该面板移动以使得光线在曝光过程中直接到达模版。
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