[发明专利]用于连续横向固化的掩模和采用它的结晶方法有效
| 申请号： | 03137474.3 | 申请日： | 2003-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN1514304A | 公开（公告）日： | 2004-07-21 |
| 发明（设计）人： | 郑允皓 | 申请（专利权）人： | LG.菲利浦LCD株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/00;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国;陈红 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于形成多晶硅层的方法，包括：在非晶硅层上设置一掩模，所述的掩模具有多个透射区，多个透射区沿着第一方向和基本上与第一方向垂直的第二方向以阶梯排列的方式相互间隔设置，每一个透射区有一中央部分和第一侧部分与第二侧部分，第一侧部分和第二侧部分在第一方向上与中央部分的相对的两端相邻，其中每一部分在第一方向上有一长度而在第二方向上有一宽度，并且其中第一部分和第二部分的宽度沿着第一方向从中央部分开始向外减小；第一次通过掩模将一激光束照射到非晶硅层上，形成与多个透射区对应的多个第一照射区，每一个第一照射区有一中央部分以及在中央部分两侧的第一侧部分和第二侧部分；将衬底和掩模彼此相对移动，以使每一个透射区的第一侧部分与每一个第一照射区的中央部分重叠；通过掩模第二次将激光束照射到非晶硅层上，形成与多个透射区对应的多个第二照射区。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 连续 横向 固化 采用 结晶 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于在一衬底上由一非晶硅层形成多晶硅层的方法，包括：在该非晶硅层上设置一掩模，该掩模具有多个透射区，所述的多个透射区沿着第一方向和基本上与第一方向垂直的第二方向以阶梯排列的方式相互间隔设置，每一个透射区具有一中央部分和第一侧部分与第二侧部分，第一侧部分和第二侧部分在第一方向上分别相邻于中央部分相对的两端，其中每一部分在第一方向上有一长度而在第二方向上有一宽度，并且其中第一部分和第二部分的宽度沿着第一方向从中央部分开始向外减小；第一次通过掩模将一激光束照射到非晶硅层上，形成与多个透射区对应的多个第一照射区，每一个第一照射区有一中央部分以及在中央部分两侧的第一侧部分和第二侧部分；将衬底和掩模彼此相对移动，以使每一个透射区的第一侧部分与每一个第一照射区的中央部分重叠；通过掩模第二次将激光束照射到非晶硅层上，形成与多个透射区对应的多个第二照射区。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于LG.菲利浦LCD株式会社，未经LG.菲利浦LCD株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/03137474.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
