[发明专利]利用双极照明进行基于规则的栅极缩小的方法和装置有效
| 申请号： | 03128638.0 | 申请日： | 2003-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN1450411A | 公开（公告）日： | 2003-10-22 |
| 发明（设计）人： | D·－F·S·苏;N·科尔科兰;J·F·陈 | 申请（专利权）人： | ASML蒙片工具有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;G06T1/00;H01L21/027;H01L29/786 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张志醒 |
| 地址： | 荷兰维尔*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种在衬底上印刷栅极图形的方法，包括以下步骤：在栅极特征与一个有源区重叠的图形中确定出至少一个区域；在所述一个栅极特征重叠一个有源区的位置处减小一个栅极特征的宽度尺寸；从图形提取栅极特征；将栅极特征分解为垂直部件掩模和水平部件掩模；以及利用双极照明照射垂直部件掩漠和水平部件掩模。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 照明 进行 基于 规则 栅极 缩小 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种在衬底上印刷图形的方法，该图形包括栅极特征和有源区，所述方法包括以下步骤：在一个所述栅极特征与一个所述有源区重叠的所述图形中确定出至少一个区域；在所述一个所述栅极特征重叠所述一个所述有源区的位置处减小所述一个所述栅极特征的宽度尺寸；从所述图形提取所述栅极特征；将所述栅极特征分解为垂直部件掩模和水平部件掩模；以及利用双极照明照射所述垂直部件掩模和所述水平部件掩模。
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