[发明专利]探测缺陷的方法无效
| 申请号： | 02826503.3 | 申请日： | 2002-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN1610826A | 公开（公告）日： | 2005-04-27 |
| 发明（设计）人： | 伊维格尼·莱文;耶胡达·科恩 | 申请（专利权）人： | 应用材料有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/956 | 分类号： | G01N21/956;G06T7/00;H01L21/66;G01R31/26 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 秦晨 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种检查衬底以寻找缺陷的方法，包含：(a)获得已检像素和参考像素；(b)计算已检值和参考值，已检值代表已检像素而参考值代表参考像素；(c)根据从已检值和参考值中产生出的选定值选择阈值；以及(d)确定选定阈值、参考值和已检值之间的关系以指示缺陷的存在。 | ||
| 搜索关键词： | 探测 缺陷 方法 | ||
【主权项】：
1.检查衬底以寻找缺陷的方法，包含：获得已检像素和参考像素；计算已检值和参考值，已检值代表已检像素而参考值代表参考像素；根据从已检值和参考值中产生出的选定值选择阈值；以及确定选定阈值、参考值和已检值之间的关系以指示缺陷的存在。
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