[发明专利]带有ITO膜的基板及其制造方法无效
| 申请号： | 02802353.6 | 申请日： | 2002-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN1464991A | 公开（公告）日： | 2003-12-31 |
| 发明（设计）人： | 清田正悟;加藤之启 | 申请（专利权）人： | 日本板硝子株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;G09F9/30;H01B5/14 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种耐碱性和密合性优良的带有ITO膜的基板。该带有ITO膜的基板是在玻璃基板(101)的表面上按照如下的顺序依次层合滤色片(102)、有机保护膜(103)、中间层(104a)、(104b)和形成了电极图案的ITO膜(105)而得到的结构。中间层(104a)是通过使用Ar作为导入气体的高频溅射法在有机保护膜(103)的表面上成膜的、难于溶解于碱中的金属氧化物构成，中间层(104b)是通过反应溅射法或高频溅射法成膜的、难于溶解于碱中的金属氧化物或金属氮化物构成。 | ||
| 搜索关键词： | 带有 ito 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种带有ITO膜的基板，具备：玻璃基板、在该玻璃基板的表面上成膜的滤色片、在前述滤色片的表面上成膜的有机保护膜、在前述有机保护膜的表面上成膜的中间层、在前述中间层的表面上成膜的ITO膜，其特征在于，前述中间层包含：由通过使用Ar作为导入气体的高频溅射法在前述有机保护膜的表面上成膜的、难于溶解于碱中的金属氧化物构成的第一中间层，和由在该第一中间层的表面上成膜的、难于溶解于碱中的金属氧化物或金属氮化物构成的第二中间层。
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