[发明专利]具有焊块底部金属化结构的半导体装置及其制程无效
申请号: | 02153326.1 | 申请日: | 2002-11-25 |
公开(公告)号: | CN1503328A | 公开(公告)日: | 2004-06-09 |
发明(设计)人: | 杨格权 | 申请(专利权)人: | 矽品精密工业股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/28 | 分类号: | H01L21/28;H01L21/44;H01L21/768 |
代理公司: | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人: | 刘激扬 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种具有焊块底部金属化结构的半导体装置及其制程,是在至少一形成有多个焊垫的半导体装置本体表面覆盖一保护层,且该保护层具有多条开孔以露出该焊垫;再在该焊垫上形成一第一金属层,并使该第一金属层能够部分覆盖在该焊垫及焊垫周围的保护层上;接着在该第一金属层上形成一第二金属层,以覆盖住该第一金属层及其余外露出该第一金属层的部分焊垫,与至少一覆盖在该第二金属层的第三金属层,以完成一焊块底部金属化结构层;之后在该焊块底部金属化结构层上形成一焊块,同时提供该焊块底部金属化结构层与该焊垫间良好的接合效果与电性连接功能。 | ||
搜索关键词: | 具有 底部 金属化 结构 半导体 装置 及其 | ||
【主权项】:
1.一种具有焊块底部金属化结构的半导体装置,其特征在于,该半导体装置包括:一半导体装置本体,并在该本体表面形成有多个焊垫;一保护层,是覆盖在该半导体装置本体的表面,并形成有多条开孔以外露出该焊垫;多个焊块底部金属化结构层,该焊块底部金属化结构层包含多个的金属层以形成在周围覆盖有该保护层的焊垫外露表面上,其中第一金属层是形成在该焊垫上,用以覆盖住部分焊垫及焊垫周围的保护层,第二金属层是形成在该第一金属层上,覆盖住该第一金属层及其余外露在该第一金属层的部分焊垫;以及多个焊块,形成在该焊块底部金属化结构层上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于矽品精密工业股份有限公司,未经矽品精密工业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/02153326.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:弛豫、低缺陷绝缘体上SiGe及其制造方法
- 下一篇:半导体器件的制造方法
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造