[发明专利]沉积薄膜及其制造方法有效
| 申请号： | 02143935.4 | 申请日： | 2002-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN1408896A | 公开（公告）日： | 2003-04-09 |
| 发明（设计）人： | 三品纪年;野本晃;冈健司;外山达也 | 申请（专利权）人： | 东赛璐株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C23C16/40 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 朱黎明 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种氧化铝沉积薄膜，它包括一层基材薄膜和一层氧化铝沉积层，所述沉积层对于基材薄膜在湿润状态下的剥离强度至少为0.3牛/15毫米，其氧气渗透率不超过40毫升/米2·天·兆帕以及水蒸汽渗透率不超过4.0克/米2·天。氧化铝沉积薄膜(1)的荧光X射线强度(A)(铝Kα射线)与没有通入氧气得到的铝沉积薄膜(2)的荧光X射线强度(B)(铝Kα射线)之比(A/B)为(A/B)≤0.85。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 薄膜 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种氧化铝沉积薄膜，它包括一层基材薄膜和一层氧化铝沉积层，所述沉积层与所述基材薄膜在湿润状态下的剥离强度至少为0.3牛/15毫米。
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