[发明专利]真空电弧自动引弧方法及装置有效
申请号: | 02141205.7 | 申请日: | 2002-07-02 |
公开(公告)号: | CN1465739A | 公开(公告)日: | 2004-01-07 |
发明(设计)人: | 朱剑豪;李刘合 | 申请(专利权)人: | 香港城市大学 |
主分类号: | C23C14/22 | 分类号: | C23C14/22 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 潘培坤;楼仙英 |
地址: | 香港九龙达*** | 国省代码: | 中国香港;81 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种多弧离子镀真空电弧自动引弧方法及装置,该方法可以在镀膜开始,进行自动引弧;在镀膜过程中,电弧熄灭或有熄灭的趋势时,由反馈环节检测电弧工作电压并反馈至引弧信号控制单元,由其作出比较并及时发出自动引弧信号,从而保证薄膜沉积过程的顺利进行,消除由于电弧熄灭而造成的反应气体气压的波动而造成的对薄膜成分、结构、色彩影响的不利因素;本发明的装置是采用反馈单元检测电弧工作状态并将其作为识别信号用于控制单元作出判断是否发出引弧信号;该装置采用电触发引弧代替机械引弧;避免了使用引弧棒(丝)等机械方式引弧造成的污染、也可以避免引弧丝与阴极粘连所造成的失效问题。 | ||
搜索关键词: | 真空 电弧 自动 方法 装置 | ||
【主权项】:
1、一种真空电弧自动引弧方法,包括下述步骤:(1)在离子镀镀膜过程中出现熄弧或熄弧趋势时,利用电弧电压波动判断电弧工作状态,决定是否重新引弧;即由一反馈环节检测主电源的电弧工作电压VW,并将该电压反馈至一引弧信号控制环节,由该控制环节将主电源的电弧工作电压VW与一参考电压fVW进行比较,当电弧工作电压VW大于参考电压fVW时,则该控制环节发出重新引弧信号将高压加至引弧元件(2)的两端,引燃电弧;所述的参考电压fVW中的系数f为1至Vi/VW,Vi为主电源空载电压;(2)当电弧引燃后,反馈环节检测到的电弧工作电压VW小于等于参考电压fVW时,则控制环节停止发出引弧信号。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于香港城市大学,未经香港城市大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/02141205.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类