[发明专利]可抹除可编程只读存储器的结构无效

专利信息
申请号: 02140238.8 申请日: 2002-07-02
公开(公告)号: CN1466223A 公开(公告)日: 2004-01-07
发明(设计)人: 林明毅;胡照林 申请(专利权)人: 联华电子股份有限公司
主分类号: H01L27/112 分类号: H01L27/112;H01L27/115
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 王学强
地址: 台湾省新竹科学*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种可抹除且可程序只读存储器的结构,包括浮栅极、控制栅极、源/漏极区域、内层介电层、内金属介电层、第一金属层与第二金属层。其配置控制栅极位于浮栅极上;源/漏极区域则位于基底中,且邻接控制栅极与浮栅极;位于控制栅极上,且不遮蔽到浮栅极的是第一金属层;而内层介电层位于控制栅极与第一金属层之间;位于第一金属层上的第二金属层遮蔽部分的浮栅极;而内金属介电层位于第一与第二金属层之间。此外,还包括连接源/漏极区域与第一金属层的接触窗;以及连接第一和第二金属层的介层窗。
搜索关键词: 可编程 只读存储器 结构
【主权项】:
1、一种可抹除可编程只读存储器的结构,其特征在于:包括:一基底;复数条控制栅极,位于该基底上;复数个浮栅极,位于该基底与该些控制栅极之间;复数个源/漏极区域,位于该基底内并邻接该些浮栅极;复数条第二金属层,位于该些控制栅极上并与该些控制栅极方向垂直,且该些第二金属层遮蔽部分该些浮栅极;复数个第一金属层,位于该些控制栅极与该些第二金属层之间,且邻近该些浮栅极而不覆盖于该些浮栅极的上方;复数个介层窗,位于该些第一金属层与该些第二金属层之间,并连接该些第一金属层与该些第二金属层。
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