[发明专利]可抹除可编程只读存储器的结构无效
申请号: | 02140238.8 | 申请日: | 2002-07-02 |
公开(公告)号: | CN1466223A | 公开(公告)日: | 2004-01-07 |
发明(设计)人: | 林明毅;胡照林 | 申请(专利权)人: | 联华电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/112 | 分类号: | H01L27/112;H01L27/115 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王学强 |
地址: | 台湾省新竹科学*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种可抹除且可程序只读存储器的结构,包括浮栅极、控制栅极、源/漏极区域、内层介电层、内金属介电层、第一金属层与第二金属层。其配置控制栅极位于浮栅极上;源/漏极区域则位于基底中,且邻接控制栅极与浮栅极;位于控制栅极上,且不遮蔽到浮栅极的是第一金属层;而内层介电层位于控制栅极与第一金属层之间;位于第一金属层上的第二金属层遮蔽部分的浮栅极;而内金属介电层位于第一与第二金属层之间。此外,还包括连接源/漏极区域与第一金属层的接触窗;以及连接第一和第二金属层的介层窗。 | ||
搜索关键词: | 可编程 只读存储器 结构 | ||
【主权项】:
1、一种可抹除可编程只读存储器的结构,其特征在于:包括:一基底;复数条控制栅极,位于该基底上;复数个浮栅极,位于该基底与该些控制栅极之间;复数个源/漏极区域,位于该基底内并邻接该些浮栅极;复数条第二金属层,位于该些控制栅极上并与该些控制栅极方向垂直,且该些第二金属层遮蔽部分该些浮栅极;复数个第一金属层,位于该些控制栅极与该些第二金属层之间,且邻近该些浮栅极而不覆盖于该些浮栅极的上方;复数个介层窗,位于该些第一金属层与该些第二金属层之间,并连接该些第一金属层与该些第二金属层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
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