[发明专利]异质结双极型晶体管和利用它构成的半导体集成电路器件有效

专利信息
申请号: 02129843.2 申请日: 2002-08-15
公开(公告)号: CN1433082A 公开(公告)日: 2003-07-30
发明(设计)人: 丹羽隆树;岛胁秀德;东晃司;黑泽直人 申请(专利权)人: NEC化合物半导体器件株式会社
主分类号: H01L29/737 分类号: H01L29/737
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 谷惠敏,袁炳泽
地址: 暂无信息 国省代码: 暂无信息
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摘要: 异质结双极型晶体管具有提高的击穿电压,并抑制IC-VCE特性的增长特性的退化。集电极区域包括半导体第一、第二集电极层。第一集电极层是由掺杂或未掺杂的半导体制成的,与副集电极区域接触。第二集电极层是由掺杂或未掺杂的半导体制成的,具有比第一集电极层窄的带隙,与基极区域接触。第三集电极层具有比第二集电极层高的掺杂浓度,被第一集电极层和第二集电极层夹在当中。
搜索关键词: 异质结双极型 晶体管 利用 构成 半导体 集成电路 器件
【主权项】:
1.一种异质结双极型晶体管,包括:副集电极区域,它由第一导电类型的半导体制成;集电极区域,它由第一导电类型的半导体制成,与副集电极区域接触;基极区域,它由第二导电类型的半导体制成,与集电极区域接触;发射极区域,它由第一导电类型的半导体制成,与基极区域接触;集电极区域包括:第一集电极层,它由第一导电类型半导体或未掺杂的半导体制成,与副集电极区域接触;第二集电极层,它由第一导电类型半导体或未掺杂的半导体制成,具有比第一集电极层更窄的带隙,与基极区域接触;第三集电极层,它由比第二集电极层掺杂浓度更高的,第一导电类型的半导体制成,在第一集电极层和第二集电极层之间。
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