[发明专利]用于评估多晶硅薄膜的装置

摘要

以不接触方式自动客观地评估多晶硅薄膜状态的多晶硅薄膜评估装置包括可移动的工作台,其上面设置承载多晶硅薄膜的基片;用可见光观察的光学系统,对多晶硅薄膜的表面图像拍照,以实现自动聚焦;用紫外光观察的光学系统,用于获得多晶硅薄膜的表面图像,利用用可见光观察的光学系统进行自动聚焦;以及评估单元,从表面图像评估该多晶硅薄膜表面空间结构的线性和周期性,以根据该线性和周期性的评估结果来评估该多晶硅薄膜的状态。

主权项

1.一种用于评估在不定形硅薄膜退火过程中形成的多晶硅薄膜的装置，包括：用于放置基片的工作台，所述基片承载形成于其上的多晶硅薄膜；用可见光观察的光学系统，所述光学系统把可见光照射在所述工作台的所述基片上，用于对所述基片上的所述多晶硅薄膜的表面图像进行拍照以实现自动聚焦；用紫外光观察的光学系统，所述光学系统把紫外光照射在该工作台上的基片上，用于获取在所述基片上的所述多晶硅薄膜的表面图像，利用所述用可见光观察的光学系统自动聚焦；以及评估装置，用于从由所述用紫外光观察的光学系统获取的所述多晶硅薄膜的表面图像而评估所述多晶硅薄膜的薄膜表面的空间结构的线性和周期性，以根据所述线性和周期性的评估结果评估该多晶硅薄膜的状态。