[发明专利]通过激光烧蚀沉积薄膜无效
| 申请号： | 01816008.5 | 申请日： | 2001-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN1461355A | 公开（公告）日： | 2003-12-10 |
| 发明（设计）人： | 埃斯特费克·塔曼彦;格利戈里·塔曼彦 | 申请（专利权）人： | AGT第一股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/28 | 分类号： | C23C14/28 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 付建军 |
| 地址： | 澳大利亚*** | 国省代码： | 澳大利亚;AU |
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| 摘要： | 一种在衬底(2)上沉积薄膜的方法，包括用激光束(12)烧蚀靶(16)，以产生沿传播方向离开靶的表面(17)延伸的蒸发物的烟柱(19)。激光束聚焦在靶表面(17)之前并在烟柱(19)中的有限距离(d)处，由此为烟柱(19)中的蒸发物赋予增加的能量。也可以高速旋转靶，以便赋予蒸发物预定的速度分量，该速度分量使以较低速移动的蒸发物偏离传播方向，并防止被沉积到衬底上。在金刚石膜的形成中该方法很有用，并且已经应用在微芯片制造、可视显示单元、太阳能转换、光学、光电技术、保护表面、医学应用以及切割和钻孔应用等领域。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 激光 沉积 薄膜 | ||
【主权项】：
1.一种在衬底上沉积薄膜的方法，该方法包括：激光烧蚀靶的表面，以产生沿传播方向离开靶的表面延伸的蒸发物的烟柱；在烟柱的传播方向上放置衬底，从而烟柱中的蒸发物沉积在衬底上；其中激光束聚焦在靶表面之前的有限距离处，从而使从所述聚焦产生的光束的最小横截面位于该烟柱中，由此增加在烟柱中的蒸发物的能量。
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