[发明专利]负作用化学放大的光刻胶组合物有效
| 申请号： | 01811264.1 | 申请日： | 2001-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN1436324A | 公开（公告）日： | 2003-08-13 |
| 发明（设计）人： | 徐平永;盧炳宏;R·R·达梅尔 | 申请（专利权）人： | 科莱恩金融(BVI)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 吴亦华 |
| 地址： | 英属维尔京群*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种化学放大的、副作用的、辐射敏感性光刻胶组合物，该组合物可在碱性介质中显影，该光刻胶包括：a)含有环键合羟基的酚类成膜聚合物粘合剂树脂；b)在曝露于辐射时形成酸的光酸产生剂，数量足以引发成膜粘合剂树脂的交联；c)在曝露于来自步骤b)通过曝露于辐射而产生的酸时形成正碳离子的交联剂，和该交联剂包括醚化氨基塑料聚合物或低聚物；d)在曝露于来自步骤b)通过曝露于辐射而产生的酸时形成正碳离子的第二交联剂，和该第二交联剂包括：1)羟基取代或2)羟基C1－C4烷基取代的C1－C12烷基酚，其中来自步骤c)和d)的交联剂总量是有效交联量；和e)光刻胶溶剂，和采用这样光刻胶组合物生产微电子器件的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 作用 化学 放大 光刻 组合 | ||
【主权项】：
1.一种化学放大的、负作用的、辐射敏感性光刻胶组合物，该组合物可在碱性介质中显影，光刻胶包括：a)含有环键合羟基的酚类成膜聚合物粘合剂树脂；b)在曝露于辐射时形成酸的光酸产生剂，数量足以引发成膜粘合剂树脂的交联；c)在曝露于来自步骤b)通过曝露于辐射而产生的酸时形成正碳离子的交联剂，和该交联剂包括醚化氨基塑料聚合物或低聚物；d)在曝露于来自步骤b)通过曝露于辐射而产生的酸时形成正碳离子的第二交联剂，和该第二交联剂包括：1)羟基取代或2)羟基C1-C4烷基取代的C1-C12烷基酚，其中来自步骤c)和d)的交联剂总量是有效交联量；和e)光刻胶溶剂。
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