[发明专利]新的聚硅氧烷聚合物的制备方法,用该方法制备的聚硅氧烷聚合物,热固性树脂组合物,树脂膜,贴有绝缘材料的金属箔,两面贴有金属箔的绝缘膜,贴有金属的层压板,多层贴有金属的层压板和多层印刷电路布线板有效

专利信息
申请号: 01808305.6 申请日: 2001-03-29
公开(公告)号: CN1425034A 公开(公告)日: 2003-06-18
发明(设计)人: 马场日男;高野希;宫内一浩 申请(专利权)人: 日立化成工业株式会社
主分类号: C08G77/12 分类号: C08G77/12;C08L83/05;B32B15/08;C08G77/38;C08L101/00;B32B27/00;C08J5/18;H05K3/46
代理公司: 北京银龙专利代理有限公司 代理人: 熊志诚
地址: 暂无信息 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及聚硅氧烷聚合物的制备方法,该方法的特征是通过一种或一种以上的硅烷化合物的水解/缩聚-聚合反应,生成的反应产物用氢化硅烷化反应剂进行氢化硅烷化反应,所述的硅烷化合物包括35-100%由通式(I):R’m(H)kXSiX4-(m+k)表示的硅烷化合物,[式中,X表示可水解和缩聚的基,例如氯、溴等卤素或-OR(其中,R表示碳原子数为1-4的烷基或碳原子数为1-4的烷基羰基);R’表示非反应基,例如,碳原子数为1-4的烷基、苯基等芳基;k是1或2,m是0或1,条件是m+k=1或2]。
搜索关键词: 聚硅氧烷 聚合物 制备 方法 热固性 树脂 组合 绝缘材料 金属 两面 绝缘 层压板 多层
【主权项】:
1、一种聚硅氧烷聚合物的制备方法,其特征是:用35-100摩尔%以R’m(H)kXSiX4-(m+k)……(I)[通式(I)中,X表示可水解、缩聚的基,例如氯、溴等卤素或-OR,此处,R是碳原子数为1-4的烷基、碳原子数为1-4的烷基羰基;R’表示非反应基,例如,碳原子数为1-4的烷基,苯基等芳基;k是1或2;m是0或1;条件是m+k=1或2]表示的硅烷化合物与65-0摩尔%以R’kSiX4-n……(II)[通式2(II)中,X表示可水解、缩聚的基,例如氯、溴等卤素或-OR,此处,R是碳原子数为1-4的烷基、碳原子数为1-4烷基羰基;R’表示非反应基,例如,碳原子数为1-4的烷基,苯基等芳基;n是0-2的整数]表示的硅烷化合物进行水解-缩聚反应,接着与氢化硅烷化反应剂进行氢化硅烷化反应。
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