[发明专利]使用光谱仪原位探测和分析煤层瓦斯地层中的瓦斯无效
| 申请号： | 01807852.4 | 申请日： | 2001-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN1423745A | 公开（公告）日： | 2003-06-11 |
| 发明（设计）人： | 约翰·波皮;约翰·赫里斯 | 申请（专利权）人： | 维尔道格股份有限公司 |
| 主分类号： | G01J3/28 | 分类号： | G01J3/28;G01N21/35 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 | 代理人： | 傅强国 |
| 地址： | 美国怀俄明*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种使用一光谱仪(4)在井(1)下进行原位测量的测量系统。光谱仪(4)包括一个辐射源(5)和一个探测器(6)。一个探头(15)与光谱仪(4)光学连接,并且包括一个用于传送来自辐射源(5)的辐射的光学通道(7)和至少一个用于将来自样品的特征辐射传送给探测器(6)的第二光学通道。配备一个定位器被用来使探头(15)定位于井孔(3)的侧表面(11)附近,并将光学通道(7)和侧面(11)光学连接,其中探头(15)通过与探头(15)和井口的一个固定位置可操作性连接的引导装置的方式可以在井中上下移动。通过应用本设备和方法,可以获得瓦斯或其它相关物质的浓度,并且因此可以获得煤层瓦斯地层潜存产量。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 光谱仪 原位 探测 分析 煤层 瓦斯 地层 中的 | ||
【主权项】：
1.一种在具有延伸到至少一个煤层的至少一个顶表面的井孔的煤层瓦斯井中用光谱仪测量瓦斯的方法，其特征在于，该方法包括：提供一个包括一个辐射源，一个探测器和一个样品界面的屏蔽套；在井中降下屏蔽套到达一定深度；将样品界面定位在样品上；用辐射源照射样品；用探测器探测样品中瓦斯的特征辐射；和处理探测器产生的信号，计算瓦斯的浓度。
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