[发明专利]堆迭式闸极快闪记忆元件有效

专利信息
申请号: 01140378.0 申请日: 2001-12-17
公开(公告)号: CN1427481A 公开(公告)日: 2003-07-02
发明(设计)人: 许以仁 申请(专利权)人: 世界先进积体电路股份有限公司
主分类号: H01L27/105 分类号: H01L27/105;H01L27/112
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 刘朝华
地址: 台湾省新竹*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种堆迭式闸极快闪记忆元件,它是形成在-P-淡掺杂的硅基底上,在此基底上形成有隧穿氧化层。在隧穿氧化层上形成有堆迭闸极,包括浮置闸极、闸极间介电层和控制闸极。堆迭闸极在浮置闸极、闸极间介电层和控制闸极的边缘具有侧壁。具有一源极线介于堆迭闸极之间,且此源极线的表面高度低于堆迭闸极的高度,当源极线开口发生对准失误而曝露出控制闸极时,此种凹入式的源极线可以避免源极线与控制闸极之间发生短路,具有提高元件优良率及增加元件可靠度的功效。
搜索关键词: 堆迭式闸 极快 记忆 元件
【主权项】:
1、一种堆迭式闸极快闪记忆元件,其特征是:它包括隧穿氧化层设于半导体基底上;堆迭闸极阵列设于该隧穿氧化层上,该堆迭闸极包括一浮置闸极于该隧穿氧化层上、闸极间介电层于该浮置闸极上及控制闸极于该闸极间介电层上;交替排列的源极/汲极区设于该堆迭闸极之间;第一介电层覆于该堆迭闸极与基底上,该第一介电层具有一源极线开口通到该源极区;源极线将该源极线开口填满部分与该源极区形威接触,该源极线是设置于该堆迭闸极之间,且其表面高度低于该堆迭闸极;第二介电层覆于该源极线与该第一介电层上,该第二介电层具有一栓塞开口通到该汲极区;汲极金属栓塞填入该栓塞开口与该汲极形成接触;金属位线设于该第二介电层上,与该汲极金属栓塞形成接触。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于世界先进积体电路股份有限公司,未经世界先进积体电路股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/01140378.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top