[发明专利]堆迭式闸极快闪记忆元件有效
申请号: | 01140378.0 | 申请日: | 2001-12-17 |
公开(公告)号: | CN1427481A | 公开(公告)日: | 2003-07-02 |
发明(设计)人: | 许以仁 | 申请(专利权)人: | 世界先进积体电路股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/105 | 分类号: | H01L27/105;H01L27/112 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 刘朝华 |
地址: | 台湾省新竹*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种堆迭式闸极快闪记忆元件,它是形成在-P-淡掺杂的硅基底上,在此基底上形成有隧穿氧化层。在隧穿氧化层上形成有堆迭闸极,包括浮置闸极、闸极间介电层和控制闸极。堆迭闸极在浮置闸极、闸极间介电层和控制闸极的边缘具有侧壁。具有一源极线介于堆迭闸极之间,且此源极线的表面高度低于堆迭闸极的高度,当源极线开口发生对准失误而曝露出控制闸极时,此种凹入式的源极线可以避免源极线与控制闸极之间发生短路,具有提高元件优良率及增加元件可靠度的功效。 | ||
搜索关键词: | 堆迭式闸 极快 记忆 元件 | ||
【主权项】:
1、一种堆迭式闸极快闪记忆元件,其特征是:它包括隧穿氧化层设于半导体基底上;堆迭闸极阵列设于该隧穿氧化层上,该堆迭闸极包括一浮置闸极于该隧穿氧化层上、闸极间介电层于该浮置闸极上及控制闸极于该闸极间介电层上;交替排列的源极/汲极区设于该堆迭闸极之间;第一介电层覆于该堆迭闸极与基底上,该第一介电层具有一源极线开口通到该源极区;源极线将该源极线开口填满部分与该源极区形威接触,该源极线是设置于该堆迭闸极之间,且其表面高度低于该堆迭闸极;第二介电层覆于该源极线与该第一介电层上,该第二介电层具有一栓塞开口通到该汲极区;汲极金属栓塞填入该栓塞开口与该汲极形成接触;金属位线设于该第二介电层上,与该汲极金属栓塞形成接触。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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