[发明专利]光刻胶树脂,化学增强光刻胶组合物及图样的形成方法无效
| 申请号： | 01140069.2 | 申请日： | 2001-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN1356594A | 公开（公告）日： | 2002-07-03 |
| 发明（设计）人： | 山名慎治 | 申请（专利权）人： | 日本电气株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李悦 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在本发明涉及具有这种分子结构的光刻胶树脂其保护基团连接在基础树脂上,这种从所述的光刻胶树脂上去除所述的保护基团能够增加其碱溶性,其中所述的保护基团是用右式(I)表示的残基其中表示具有12－25个碳原子的取代或未取代的稠环,R表示有1－4个碳原子的烷基。本发明的光刻胶树脂具有结构特定的保护基团,因此,该光刻胶树脂具有优秀的耐刻蚀性、光刻胶分辨率和对基体的附着性及具有各种优异的光刻胶树脂所需要的其它性能。依靠使用这种光刻胶树脂的化学增强光刻胶组合物和图样形成方法,可以进行目前无法进行的高度微细加工。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 树脂 化学 增强 组合 图样 形成 方法 | ||
【主权项】：
1、一种光刻胶树脂，在其分子结构中，保护基团连接在基础树脂上，这种从所述的光刻胶树脂上去除所述的保护基团能够增加其碱溶性，其中：所述的保护基团是用下式(I)表示的残基：其中表示具有12-25个碳原子的取代或未取代的稠环，R表示有1-4个碳原子的烷基。
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