[发明专利]光刻胶树脂,化学增强光刻胶组合物及图样的形成方法

权利要求书

1、一种光刻胶树脂，在其分子结构中，保护基团连接在基础树脂上，这种从所述的光刻胶树脂上去除所述的保护基团能够增加其碱溶性，其中：

所述的保护基团是用下式(I)表示的残基：其中表示具有12-25个碳原子的取代或未取代的稠环，R表示有1-4个碳原子的烷基。

2、根据权利要求1所述的光刻胶树脂，其中所述的式(I)中的是三环[5.2.1.0^2.6]癸基，六环[6.6.1.1^3.6.1^10.13.0^2.7.0^9.14]十七烷基，八环[8.8.1^2.9.1^4.7.1^11.18.1^13.16.0.0^3.8.0^12.17]二十二烷基，胆甾烷基及其衍生物。

3、根据权利要求1所述的光刻胶树脂，其中所述的保护基团是用下式(II)表示的残基：其中，R表示有1-4个碳原子的烷基。

4、根据权利要求1所述的光刻胶树脂，其中所述的保护基团是用下式(III)表示的残基：其中，R表示有1-4个碳原子的烷基。

5、根据权利要求1-4中任何一个所述的光刻胶树脂，其中用下式定义的α不大于3.1：

α＝N/(N_c-N_o)其中，N表示所述的光刻胶树脂中的总原子数，N_c表示所述的光刻胶树脂中的碳原子数，N_o表示所述的光刻胶树脂中的氧原子数。

6、根据权利要求1-4中任何一个所述的光刻胶树脂，其分子结构中不含有芳香环。

7、根据权利要求5所述的光刻胶树脂，其分子结构中不含有芳香环。

8、一种光刻胶树脂，含有下式(A)表示的单元：其中，R₁、R₃和R₅各自独立地表示氢原子或甲基，R₂表示有7-25个碳原子的脂环烃基，保护基团R₄是用下式(I)表示的残基：其中表示具有12-25个碳原子的取代或未取代的稠环，R表示有1-4个碳原子的烷基，R₆表示氢原子或γ-丁内酯基，l、m和n各自表示各个单元的百分含量，l+m+n＝100，0＜l＜100，0＜m＜100且0＜n＜100。

9、根据权利要求8所述的光刻胶树脂，其中在所述的保护基团R₄中的是三环[5.2.1.0^2.6]癸基，六环[6.6.1.1^3.6.1^10.13.0^2.7.0^9.14]十七烷基，八环[8.8.1^2.9.1^4.7.1^11.18.1^13.16.0.0^3.8.0^12.17]二十二烷基，胆甾烷基及其衍生物。

10、根据权利要求8所述的光刻胶树脂，其中所述的保护基团R₄是用下式(II)表示的残基：其中，R表示有1-4个碳原子的烷基。

11、根据权利要求8所述的光刻胶树脂，其中所述的保护基团R₄是用下式(III)表示的残基：其中，R表示有1-4个碳原子的烷基。

12、根据权利要求8-11中任何一个所述的光刻胶树脂，其中用下式定义的α不大于3.1：

α＝N/(N_c-N_o)其中，N表示所述的光刻胶树脂中的总原子数，N_c表示所述的光刻胶树脂中的碳原子数，N_o表示所述的光刻胶树脂中的氧原子数。