[发明专利]电光装置、电光装置的制造方法和电子装置有效
申请号: | 01116658.4 | 申请日: | 2001-04-19 |
公开(公告)号: | CN1318868A | 公开(公告)日: | 2001-10-24 |
发明(设计)人: | 平林幸哉 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;G02F1/133 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 杨凯,叶恺东 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的课题是防止因由被绝缘膜覆盖的单晶硅层构成的晶体管的沟道区成为电浮置状态而发生的衬底浮游效应,能使元件的电特性稳定。解决方法是半导体层1a的沟道区1a’具有延伸部201。延伸部201的终端部与接触孔202连接。该接触孔202与连接布线203连接。连接布线203的一端如上所述与接触孔202连接,同时通过邻接地形成的接触孔204与遮光膜11a连接。 | ||
搜索关键词: | 电光 装置 制造 方法 电子 | ||
【主权项】:
1.一种电光装置,其中,在支撑基板上设有:多条扫描线;与上述多条扫描线交叉的多条数据线;与上述各扫描线和上述各数据线连接的晶体管;与上述晶体管连接的像素电极;以及在成为上述晶体管的沟道的半导体层之下形成的绝缘层,在该绝缘层与上述支撑基板之间设有导电性的遮光层,其特征在于:上述半导体层的延伸部与上述遮光层导电性地连接。
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