[发明专利]制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法无效
| 申请号： | 01104764.X | 申请日： | 2001-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN1134523C | 公开（公告）日： | 2004-01-14 |
| 发明（设计）人： | D·M·谢姆;W·S·雷德;大胁寿树 | 申请（专利权）人： | 不二见美国股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;G11B5/73 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 白益华 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 公开了一种用于存储器硬盘的抛光组合物，该组合物至少包含以下组分(a)至(d)：(a)以抛光组合物总量计的0.1-50％(重量)至少一种磨料，选自二氧化硅、氧化铝、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅和二氧化锰，(b)以抛光组合物总量计的0.001-10％(重量)至少一种高碘酸(盐)，选自高碘酸、高碘酸钾、高碘酸钠和高碘酸锂，(c)以抛光组合物总量计的0.01-30％(重量)至少一种过二硫酸盐，选自过二硫酸铵、过二硫酸钾和过二硫酸钠和(d)水，所述抛光组合物的pH值为2-7。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 存储器 硬盘 抛光 组合 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于存储器硬盘的抛光组合物，该组合物至少包含以下组分(a)至(d)：(a)以抛光组合物总量计的0.1-50％(重量)胶体二氧化硅，(b)以抛光组合物总量计的0.001-10％(重量)至少一种高碘酸(盐)，选自高碘酸、高碘酸钾、高碘酸钠和高碘酸锂，(c)以抛光组合物总量计的0.01-30％(重量)至少一种过二硫酸盐，选自过二硫酸铵、过二硫酸钾和过二硫酸钠，(d)水，所述抛光组合物的pH值为2-7。
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