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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法-CN00131712.1无效
发明人： W·S·雷德;D·M·谢姆;大胁寿树 -专利权人：不二见美国股份有限公司
申请日： 2000-09-27 - 公布日： 2004-01-14 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于存储器硬盘的抛光组合物，它包含以下组分(a)至(d)：(a)以抛光组合物总量计的0.1-50％(重量)至少一种磨料，选自二氧化硅、氧化铝、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅、二氧化锰，(b)以抛光组合物总量计的0.001-10％(重量)至少一种铁盐，选自硝酸铁、硫酸铁、硫酸铁铵、高氯酸铁、氯化铁、柠檬酸铁、柠檬酸铁铵、草酸铁、草酸铁铵和乙二胺四乙酸的铁螯合物配盐，(c)以抛光组合物总量计的0.01-30％(重量)至少一种过二硫酸盐，选自过二硫酸铵、过二硫酸钾和过二硫酸钠，(d)水。
制造存储器硬盘抛光组合方法

[发明专利]抛光组合物-CN00131713.X无效
发明人： D·M·谢姆;W·S·雷德;大胁寿树 -专利权人：不二见美国股份有限公司
申请日： 2000-09-27 - 公布日： 2004-01-14 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于抛光存储器硬盘的抛光组合物，包含以下组分(a)至(d)：(a)以抛光组合物总量计的0.1-50％(重量)的至少一种磨料，选自二氧化硅、氧化铝、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅、二氧化锰，(b)以抛光组合物总量计的0.0001-3.0％(重量)的至少一种抛光减阻剂，选自表面活性剂、水溶性聚合物和聚电解质，(c)以抛光组合物总量计的0.001-40％(重量)的至少一种抛光促进剂，选自无机酸、有机酸，以及它们的铝、铁、镍和钴盐，(d)水。
抛光组合

[发明专利]制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法-CN01104764.X无效
发明人： D·M·谢姆;W·S·雷德;大胁寿树 -专利权人：不二见美国股份有限公司
申请日： 2001-02-23 - 公布日： 2004-01-14 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：公开了一种用于存储器硬盘的抛光组合物，该组合物至少包含以下组分(a)至(d)：(a)以抛光组合物总量计的0.1-50％(重量)至少一种磨料，选自二氧化硅、氧化铝、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅和二氧化锰，(b)以抛光组合物总量计的0.001-10％(重量)至少一种高碘酸(盐)，选自高碘酸、高碘酸钾、高碘酸钠和高碘酸锂，(c)以抛光组合物总量计的0.01-30％(重量)至少一种过二硫酸盐，选自过二硫酸铵、过二硫酸钾和过二硫酸钠和(d)水，所述抛光组合物的pH值为2-7。
制造存储器硬盘抛光组合方法

[发明专利]制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法-CN01104762.3无效
发明人： D·M·谢姆;W·S·雷德;大胁寿树 -专利权人：不二见美国股份有限公司
申请日： 2001-02-23 - 公布日： 2001-10-10 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：一种用于存储器硬盘的抛光组合物，该组合物至少包含以下组分(a)至(d)(a)以抛光组合物总量计的0.1－50%(重量)至少一种磨料，选自二氧化硅、氧化铝、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅和二氧化锰，(b)以抛光组合物总量计的0.001－10%(重量)至少一种高碘酸(盐)，选自高碘酸、高碘酸钾、高碘酸钠和高碘酸锂，(c)用来将所述抛光组合物的pH值调节至2－5的缓冲组分，(d)水。
制造存储器硬盘抛光组合方法

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