[发明专利]高温热流光刻制造方法有效
申请号: | 01101385.0 | 申请日: | 2001-01-05 |
公开(公告)号: | CN1363859A | 公开(公告)日: | 2002-08-14 |
发明(设计)人: | 黄义雄;张峰源;赖建文;陈桂顺 | 申请(专利权)人: | 联华电子股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波 |
地址: | 台湾省新竹*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 一种高温热流光刻制造方法,其包括首先提供一高温热流光致抗蚀剂,之后于高温热流光致抗蚀剂中加入一交联试剂,以形成一高温热流交联光致抗蚀剂。接着,提供一基底,且其上形成有一绝缘层。继之,在绝缘层上,形成一高温热流交联光致抗蚀剂层。续之,依序进行一曝光制造工艺、一显影制造工艺以及一热流制造工艺。 | ||
搜索关键词: | 高温 热流 光刻 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种高温热流光刻制造方法,其包括:提供一高温热流光致抗蚀剂;在该高温热流光致抗蚀剂中加入一交联试剂,以形成一高温热流交联光致抗蚀剂;提供一基底,该基底上形成有一绝缘层;在该绝缘层上,形成一高温热流交联光致抗蚀剂层;进行一曝光制造工艺;进行一显影制造工艺;以及进行一热流制造工艺。
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