[发明专利]高温热流光刻制造方法有效

专利信息
申请号: 01101385.0 申请日: 2001-01-05
公开(公告)号: CN1363859A 公开(公告)日: 2002-08-14
发明(设计)人: 黄义雄;张峰源;赖建文;陈桂顺 申请(专利权)人: 联华电子股份有限公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波
地址: 台湾省新竹*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 高温 热流 光刻 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种高温热流光刻制造方法,其包括:

提供一高温热流光致抗蚀剂;

在该高温热流光致抗蚀剂中加入一交联试剂,以形成一高温热流交联光致抗蚀剂;

提供一基底,该基底上形成有一绝缘层;

在该绝缘层上,形成一高温热流交联光致抗蚀剂层;

进行一曝光制造工艺;

进行一显影制造工艺;以及

进行一热流制造工艺。

2.如权利要求1所述的高温热流光刻制造方法,其中该交联试剂包括具有羟基苯甲酸结构的一聚合物。

3.如权利要求1所述的高温热流光刻制造方法,其中该热流制造工艺的温度为摄氏150度至160度之间。

4.如权利要求1所述的高温热流光刻制造方法,其中该高温热流交联光致抗蚀剂中所含的该交联试剂为2%至5%之间。

5.一种提高高温热流光刻制造工艺的制造工艺裕度的方法,其包括:

提供一基底,该基底上形成有一绝缘层;

在该绝缘层上,形成一光致抗蚀剂层,其中该光致抗蚀剂层中含有具多个交联官能团的一聚合物;

进行一软烤制造工艺;

进行一曝光制造工艺;

进行一硬烤制造工艺;

进行一显影制造工艺;以及

进行一高温制造工艺,以使该光致抗蚀剂产生热流以及使该聚合物产生交联作用。

6.如权利要求5所述的提高高温热流光刻制造工艺的制造工艺裕度的方法,其中该些交联官能团包括羧基。

7.如权利要求5所述的提高高温热流光刻制造工艺的制造工艺裕度的方法,其中该聚合物包括具有羟基苯甲酸结构的一聚合物。

8.如权利要求5所述的提高高温热流光刻制造工艺的制造工艺裕度的方法,其中该高温制造工艺的温度为摄氏150度至160度之间。

9.如权利要求5所述的提高高温热流光刻制造工艺的制造工艺裕度的方法,其中该高温热流交联光致抗蚀剂中所含的该交联试剂为2%至5%之间。

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