[发明专利]高温热流光刻制造方法有效
申请号: | 01101385.0 | 申请日: | 2001-01-05 |
公开(公告)号: | CN1363859A | 公开(公告)日: | 2002-08-14 |
发明(设计)人: | 黄义雄;张峰源;赖建文;陈桂顺 | 申请(专利权)人: | 联华电子股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波 |
地址: | 台湾省新竹*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 高温 热流 光刻 制造 方法 | ||
1.一种高温热流光刻制造方法,其包括:
提供一高温热流光致抗蚀剂;
在该高温热流光致抗蚀剂中加入一交联试剂,以形成一高温热流交联光致抗蚀剂;
提供一基底,该基底上形成有一绝缘层;
在该绝缘层上,形成一高温热流交联光致抗蚀剂层;
进行一曝光制造工艺;
进行一显影制造工艺;以及
进行一热流制造工艺。
2.如权利要求1所述的高温热流光刻制造方法,其中该交联试剂包括具有羟基苯甲酸结构的一聚合物。
3.如权利要求1所述的高温热流光刻制造方法,其中该热流制造工艺的温度为摄氏150度至160度之间。
4.如权利要求1所述的高温热流光刻制造方法,其中该高温热流交联光致抗蚀剂中所含的该交联试剂为2%至5%之间。
5.一种提高高温热流光刻制造工艺的制造工艺裕度的方法,其包括:
提供一基底,该基底上形成有一绝缘层;
在该绝缘层上,形成一光致抗蚀剂层,其中该光致抗蚀剂层中含有具多个交联官能团的一聚合物;
进行一软烤制造工艺;
进行一曝光制造工艺;
进行一硬烤制造工艺;
进行一显影制造工艺;以及
进行一高温制造工艺,以使该光致抗蚀剂产生热流以及使该聚合物产生交联作用。
6.如权利要求5所述的提高高温热流光刻制造工艺的制造工艺裕度的方法,其中该些交联官能团包括羧基。
7.如权利要求5所述的提高高温热流光刻制造工艺的制造工艺裕度的方法,其中该聚合物包括具有羟基苯甲酸结构的一聚合物。
8.如权利要求5所述的提高高温热流光刻制造工艺的制造工艺裕度的方法,其中该高温制造工艺的温度为摄氏150度至160度之间。
9.如权利要求5所述的提高高温热流光刻制造工艺的制造工艺裕度的方法,其中该高温热流交联光致抗蚀剂中所含的该交联试剂为2%至5%之间。
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