[发明专利]具有挤出抗静电层的反射正片材料无效
申请号: | 00137524.5 | 申请日: | 2000-12-27 |
公开(公告)号: | CN1304059A | 公开(公告)日: | 2001-07-18 |
发明(设计)人: | D·马朱姆达;J·格雷纳;T·M·拉尼 | 申请(专利权)人: | 伊斯曼柯达公司 |
主分类号: | G03C1/85 | 分类号: | G03C1/85;G03C1/795 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 刘元金,杨九昌 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种反射照相成象材料,包含至少一层卤化银层和含至少一层含聚合物抗静电材料的挤出层的基底材料。 | ||
搜索关键词: | 具有 挤出 抗静电 反射 正片 材料 | ||
【主权项】:
1.一种反射照相成象材料,包含:至少一层卤化银层、包含至少一层包含聚合物抗静电材料的与支持体整体形成的挤出层的支持体。
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