[发明专利]气体分配系统

摘要

将气体分配给到处理室的多个馈送管以处理衬底的设备和方法。系统包括处理气注入器和护罩组件，所说组件在处理气注入器附近具有多个护罩体，用于减少处理副产物在其上的淀积。每个护罩体具有滤网和量管，量管中具有小孔阵列，用于通过滤网输送保护气。保护气通过多个具有限流器的流道供应给量管，限流器具有大小确定为能从每个护罩体提供等流量保护气的孔眼。孔眼的大小较好是确定为即便气源的压力或流量变化，也能使保护气流量恒定。

主权项

1、一种化学汽相淀积系统的护罩组件，所说护罩组件包括：(a)多个护罩体，每个护罩体具有滤网和导管，所说导管中具有小孔阵列，用于通过滤网输送保护气；(b)多个流道，至少一个流道耦合到每个导管，用于向导管供应保护气；及(c)在多个流道中的每一个中的限流器，限流器具有截面积A孔 眼的大小确定为能从多个护罩体的每一个提供同等流量的保护气的孔眼。