[发明专利]覆晶件晶片的结合方法无效
申请号: | 00103473.1 | 申请日: | 2000-03-13 |
公开(公告)号: | CN1313631A | 公开(公告)日: | 2001-09-19 |
发明(设计)人: | 谢文乐;庄永成;黄宁;陈慧萍;蒋华文;张衷铭;涂丰昌;黄富裕;张轩睿;胡嘉杰 | 申请(专利权)人: | 华泰电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/50 | 分类号: | H01L21/50 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 刘领弟 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 一种覆晶件晶片的结合方法。为提供一种缩短晶片结合时间、提高生产效率及提高产品质量的半导体元件覆晶技术,提出本发明,它包括在晶圆上预设金属导体凸块,并切割形成晶片、在基板上形成与晶片上金属导体凸块相对应的金属焊料凸块;在基板上涂布封胶材料;将晶片翻转,使其上金属导体凸块面朝下,并对正基板上形成的金属焊料凸块;以晶片上的金属导体凸块与基板上金属焊料凸块接触,并施以压合加热。 | ||
搜索关键词: | 覆晶件 晶片 结合 方法 | ||
【主权项】:
1、一种覆晶件晶片的结合方法,它包括如下步骤:第一步骤在从晶圆厂生产制造完成的晶圆上预先设置金属导体凸块,并切割成适当大小形成晶片;第二步骤在基板上涂布封胶材料;第三步骤将晶片翻转,使其上金属导体凸块面朝下;第四步骤以晶片上的金属导体凸块与基板接触,进行加热结合;其特征在于所述的第一步骤中还包括在基板上与晶片结合的预留位置上,形成与晶片上金属导体凸块相对应的金属焊料凸块;第三步骤中使晶片上的金属导体凸块对正基板上形成的金属焊料凸块;第四步骤中晶片上的金属导体凸块与基板上金属焊料凸块接触,并施以压合加热,使晶片上金属导体凸块藉由基板上加热融熔后再硬化焊固的金属焊料凸块牢固地焊接结合于基板上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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