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专利名称

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申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]一种图案化方法-CN201910540801.X有效
发明人： F·拉扎里诺;V·M·布兰克 -专利权人： IMEC非营利协会
申请日： 2019-06-21 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：根据一个方面，提供了一种图案化方法，包括：使用第一掩模层作为蚀刻掩模来在上记忆层中图案化一组上沟槽；在下记忆层中图案化第一组下沟槽，所述图案化包括将经图案化的上记忆层、间隔件层和第一块图案用作为蚀刻掩模，其中所述第一下沟槽的至少一个子集被沟槽间断所中断；在经图案化的下记忆层和第二块图案上方形成第二掩模层，其中一组沟槽使用光刻和蚀刻来被形成在第二掩模层中；使用第二掩模层、间隔件层和第二块图案作为蚀刻掩模来在经图案化的下记忆层中图案化第二组下沟槽，其中所述第二下沟槽的至少一个子集被沟槽间断所中断；以及在目标层中在第一组下沟槽下方图案化第一组目标沟槽和在第二组下沟槽下方图案化第二组目标沟槽。
一种图案方法

[发明专利]用于对电子显微镜图像进行去噪的方法-CN202110793368.8在审
发明人： B·戴伊;S·霍尔德;G·S·卡尔;V·M·布兰克;S·S·S·瓦达库普杜帕拉亚姆 -专利权人： IMEC非营利协会
申请日： 2021-07-14 - 公布日： 2022-03-11 - 主分类号： G06T5/00 文献下载
摘要：本发明一般涉及图像处理。特别地，本发明涉及一种用于对电子显微镜(EM)图像进行去噪的方法和设备。该方法包括选择EM图像的补丁的步骤，其中该补丁包括多个像素，其中对该补丁执行以下步骤：i)用来自同一EM图像的不同的、优选为随机选择的像素的值替代该补丁的一个像素的值，优选为中心像素的值；ii)基于该补丁中其他像素的值来确定该一个像素的去噪值；以及iii)用确定的去噪值替代该一个像素的值。
用于电子显微镜图像进行方法

[发明专利]图案化方法-CN202110435562.9在审
发明人： F·拉扎里诺;V·M·布兰克 -专利权人： IMEC非营利协会
申请日： 2021-04-22 - 公布日： 2021-10-26 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本公开涉及提供底层的图案化以在底层中形成第一组沟槽和第二组沟槽的方法。该方法基于辅以间隔物辅助(SA)技术的两个光刻‑蚀刻(LE)图案化工艺的组合。相应地，本发明方法可被称为“SALELE图案化工艺”。该方法使用包括三个记忆层的层堆：上部记忆层，允许首先记忆上部沟槽并随后记忆一个或多个上部阻挡；中间记忆层，允许首先记忆中间沟槽和一个或多个第一中间阻挡并随后记忆第二中间阻挡和中间线；以及下部记忆层，允许首先记忆第一下部沟槽和一个或多个第一下部阻挡并随后记忆第二下部沟槽和一个或多个第二下部阻挡。
图案方法

[发明专利]图案化方法-CN202110435987.X在审
发明人： V·M·布兰克;F·拉扎里诺 -专利权人： IMEC非营利协会
申请日： 2021-04-22 - 公布日： 2021-10-26 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本公开涉及提供底层的图案化以在底层中形成第一组沟槽和第二组沟槽的方法。该方法基于辅以间隔物辅助(SA)技术的两个光刻‑蚀刻(LE)图案化工艺的组合。相应地，本发明方法可被称为“SALELE”图案化工艺。该方法使用由色调反转办法形成的一个或多个第一上部阻挡，允许首先记忆上部沟槽并随后记忆第二上部阻挡的上部记忆层；以及允许首先记忆第一下部沟槽和一个或多个第一下部阻挡并随后记忆第二下部沟槽和一个或多个第二下部阻挡的下部记忆层。
图案方法

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共 4 条

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