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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]掩膜结构及其制法-CN201510039421.X有效
发明人： S·K·帕蒂尔;S·辛格;U·欧克罗安雅安乌;O·R·伍德;P·J·S·曼格特 -专利权人：格罗方德半导体公司
申请日： 2015-01-27 - 公布日： 2019-06-25 - 主分类号： G03F1/24 文献下载
摘要：本发明涉及掩膜结构及其制法，提供一种光刻掩膜结构，包括：衬底；位于该衬底上方的至少一个反射层；以及位于该至少一个反射层上方的吸收膜堆叠，该吸收膜堆叠包括由第一材料构成的多个第一膜层以及由第二材料构成的至少一个第二膜层。该第二材料不同于该第一材料，且该一个或多个第二膜层与该多个第一膜层交错。在一个实施例中，该吸收膜堆叠的总厚度小于50纳米。在另一个实施例中，对于极紫外光的预定义波长，该吸收膜堆叠的反射率小于2％。在又一个实施例中，该一个或多个第二膜层防止该第一膜层的平均晶粒尺寸超过该第一膜层的厚度。
膜结构及其制法

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共 1 条

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