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[发明专利]肟磺酸酯和其作为潜伏酸的用途-CN200780023203.0无效
发明人： H·亚马托;T·阿萨库拉;Y·尼施梅;T·伊瓦伊;M·伊里;K·纳卡亚马 -专利权人：西巴控股有限公司
申请日： 2007-06-15 - 公布日： 2009-07-01 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：式I、II或III的化合物，其中R₁例如是C₁-C₁₈烷基磺酰基、C₁-C₁₀卤代烷基磺酰基、樟脑基磺酰基、苯基-C₁-C₃烷基磺酰基、苯基磺酰基、萘基磺酰基、蒽基磺酰基、菲基磺酰基或杂芳基磺酰基，R′₁例如是亚苯基二磺酰基，R₂例如是CN、C₁-C₁₀卤代烷基或被Ⅳ取代的C₁-C₁₀卤代烷基；Ar₁例如是任选被式IV的基团取代的苯基；Ar′₁例如是任选地被式IV的基团取代的亚苯基；A₁、A₂和A₃彼此独立地是例如氢、卤素、CN或C₁-C₁₈烷基；D₂例如是直接的键、O、(CO)O、(CO)S、SO₂、OSO₂或C₁-C₁₈亚烷基；或者A₃和D₂一起形成C₃-C₃₀环烯基；或者A₂和D₂，与它们所连接的烯键式不饱和双键的碳一起，形成C₃-C₃₀环烷基；D₃和D₄例如彼此独立地是直接的键、O、S、C₁-C₁₈亚烷基或C₃-C₃₀亚环烷基条件是基团R₂、Ar₁或Ar₁′中的至少一个包括式IV的基团；适合作为光潜伏酸供体并且用于制备待用于化学放大光致抗蚀剂中的相应聚合物。
肟磺酸酯作为潜伏用途

[发明专利]卤代肟衍生物和其作为潜在的酸的用途-CN200480004559.6有效
发明人： H·亚马托;T·阿萨库拉;A·马特苏莫托;P·穆雷尔;T·欣特尔曼 -专利权人：西巴特殊化学品控股有限公司
申请日： 2004-02-09 - 公布日： 2006-03-22 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：式(I)或(II)的化合物，其中R₁是C₁－C₁₀卤代烷基磺酰基，卤代苯磺酰基，C₂－C₁₀卤代烷酰基，卤代苯甲酰基；R₂是卤素或C₁－C₁₀卤代烷基；Ar₁是苯基，联苯基，芴基，萘基，蒽基，菲基，或杂芳基，所有的这些都是任选被取代的；Ar′₁是例如亚苯基，亚萘基，二亚苯基，亚杂芳基，氧基二亚苯基，亚苯基D－D₁－D－亚苯基或－Ar″A₁－Y₁－A₁－Ar″代的；Ar″₁是亚苯基，亚萘基，亚蒽基，亚菲基，或亚杂芳基，所有的这些都是任选被取代的；A₁是例如直接的键，－O－，－S－或－NR₆－；Y₁特别是C₁－C₁₈亚烷基；X是卤素；D是例如－O－，－S－或－NR₆－；D₁特别是C₁－C₁₈亚烷基；在ArF抗蚀剂技术中特别适合作为光致潜在的(photolatent)酸。
卤代肟衍生物作为潜在用途

[发明专利]鎓盐和其作为潜酸的用途-CN01820057.5有效
发明人： H·亚马托;T·阿萨库拉;A·马特苏莫托;M·奥瓦 -专利权人：西巴特殊化学品控股有限公司
申请日： 2001-11-26 - 公布日： 2005-08-31 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：化学放大光刻胶组合物，包括：(a)在酸的作用下固化的化合物或其溶解度在酸的作用下增加的化合物；和(b)作为光敏酸给体的式Ia，Ib，Ic，IIa或IIc的至少一种化合物，其中R₁是例如C₁－C₅烷基，C₃－C₃₀环烷基，C₁－C₅卤代烷基，C₂－C₁₂链烯基，C₄－C₈环烯基，C₆－C₁₂双环烯基，苯基，萘基，蒽基，菲基，或是杂芳基；所有这些是未取代的或是取代的；任选一些取代基与在苯基、萘基、蒽基、菲基或杂芳基环上的其它取代基，或与苯基、萘基、蒽基、菲基或杂芳基环上的碳原子之一形成5或6元环；R₁’是例如C₁－C₁₂亚烷基，C₃－C₃₀亚环烷基，亚苯基，亚萘基，二亚苯基，或氧联二亚苯基，其中这些基团是未取代或取代的；A和B例如是直接键；Ar₁和Ar₂彼此独立是苯基，萘基，蒽基，菲基或杂芳基，所有这些是未取代或取代的；Ar₃，Ar₄和Ar₅例如具有以上对于Ar₁和Ar₂给出的含义之一；Y是例如C₃－C₃₀亚环烷基，亚苯基，亚萘基，二亚苯基或氧联二亚苯基，所有这些是未取代或取代的。
作为用途

[发明专利]肟衍生物及其作为潜酸的用途-CN200410092575.7无效
发明人： H·亚马托;T·阿萨库拉;J·－L·比尔鲍姆;K·迪特利克 -专利权人：西巴特殊化学品控股有限公司
申请日： 1999-10-18 - 公布日： 2005-07-13 - 主分类号： C07C255/64 文献下载
摘要：新的式I或II肟衍生物其中m是0或1；R₁尤其是苯基、萘基、蒽基、菲基或杂芳基；R’₁是例如C₂－C₁₂亚烷基、亚苯基、亚萘基；R₂是CN；R₃是C₂－C₆卤代烷酰基、卤代苯甲酰基、磷酰基或有机硅烷基；R₄、R₅、R₁₀和R₁₁尤其是氢、C₁－C₆烷基、C₁－C₆烷氧基；R₆尤其是氢、苯基、C₁－C₁₂烷基；R₇和R₈尤其是氢、C₁－C₁₂烷基；或R₇和R₈同与其键连的氮原子一起形成5、6或7元环；R₉是例如C₁－C₁₂烷基；和A尤其是S、O、NR_7a；其可用作潜酸，特别是在光致抗蚀剂中应用。
衍生物及其作为用途

[发明专利]磺酸衍生物及其作为潜酸的用途-CN03803305.4有效
发明人： A·马特舒莫托;H·亚马托;T·阿萨库拉;P·穆雷尔 -专利权人：西巴特殊化学品控股有限公司
申请日： 2003-01-28 - 公布日： 2005-06-15 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：化学放大的光致抗蚀剂组合物，包含(a)在一种酸或一种其溶解度在酸的作用时增大的化合物的作用时固化的一种化合物；和(b)式Ia、Ib、IIa、IIb、IIIa、IIIb、IVa、IVb、Va、Vb、或VIa的化合物，式中n是1或2；m是0或1；X₀是－[CH₂]_h－X或－CH＝CH₂；h是2、3、4、5或6；R₁当n是1时是诸如任选地有取代的苯基、萘基、蒽基、菲基、或杂芳基；R₁当n是2时是诸如任选地有取代的亚苯基或亚萘基；R₂诸如有R₁的含义之一；X是诸如－OR₂₀、－NR₂R₂₂、－SR₂₃；X’是－X₁－A₃－X₂－；X₁和X₂是诸如－O－、－S－或一个直接键；A₃是诸如亚苯基；R₃有诸如对R₁给出的含义之一；R₄有诸如对R₂给出的含义之一；R₅和R₆是诸如氢；Gi.a.是－S－或－O－；R₇当n是1时是诸如任选地有取代的苯基，当n是2时是诸如亚苯基；R₈和R₉是诸如C₁－C₁₈烷基；R₁₀有对R₇给出的含义之一；R₁₁i.a.是C₁－C₁₈烷基；R₁₂、R₁₃、R₁₄、R₁₅、R₁₆、R₁₇和R₁₈是诸如氢或C₁－C₁₈烷基；R₂₀、R₂₁、R₂₂和R₂₃i.a.是苯基或C₁－C₁₈烷基；给出高分辨率和良好抗蚀剂形象。
衍生物及其作为用途

[发明专利]取代的肟衍生物及其作为潜在酸的用途-CN02810931.7有效
发明人： A·马特苏莫托;H·亚马托;T·阿萨库拉;M·奥瓦;P·穆雷尔 -专利权人：西巴特殊化学品控股有限公司
申请日： 2002-05-23 - 公布日： 2004-07-14 - 主分类号： C07D333/20 文献下载
摘要：通式(I)和(II)的新的肟磺酸酯化合物，(其中R₁是C_1－12烷基、C_1－4卤代烷基、氢、OR₉、NR₁₁R₁₂、SR₁₂或是未取代或被OH、C_1－18烷基、卤素和/或C_1－12烷氧基取代的苯基；R₂、R₃、R₄和R₅例如是氢或C_1－12烷基；R₆例如是C_1－18烷基磺酰基、苯基－C_1－3烷基磺酰基或苯磺酰基；R’₆是例如亚苯基二磺酰基或二亚苯基二磺酰基；R₇、R₈和R₉例如是氢或C_1－6烷基；R₁₀和R₁₁例如是氢或C_1－18烷基；R₁₂是例如氢、苯基或C_1－18烷基；A是S、O、NR₁₃、或A1、A2或A3的基团；R₂₁和R₂₂各自独立地具有R₇的定义；R₂₃、R₂₄、R₂₅和R₂₆各自独立地是例如氢、C_1－4烷基、卤素或苯基；Z是CR₂₂或N；和Z₁是CR₂₂或N；和Z₁是CR₂₂或N；和Z₁是－CH₂－、S、O或NR₁₃)特别适用于在光致抗蚀剂应用中作为光致潜在酸。
取代衍生物及其作为潜在用途

[发明专利]肟衍生物及其作为潜酸的用途-CN99812849.X无效
发明人： H·亚马托;T·阿萨库拉;J·－L·比尔鲍姆;K·迪特利克 -专利权人：西巴特殊化学品控股有限公司
申请日： 1999-10-18 - 公布日： 2001-12-05 - 主分类号： C07F9/11 文献下载
摘要：新的式Ⅰ或Ⅱ肟衍生物,其中m是0或1;R1尤其是苯基、萘基、蒽基、菲基或杂芳基;R’1是例如C2－C12亚烷基、亚苯基、亚萘基;R2是CN;R3是C2－C6卤代烷酰基、卤代苯甲酰基、磷酰基或有机硅烷基;R4、R5、R10和R11尤其是氢、C1－C6烷基、C1－C6烷氧基;R6尤其是氢、苯基、C1－C12烷基;R7和R8尤其是氢、C1－C12烷基;或R7和R8同与其键连的氮原子一起形成5、6或7元环;R9是例如C1－C12烷基;和A尤其是S、O、NR7a;其可用作潜酸,特别是在光致抗蚀剂中应用。
衍生物及其作为用途

[发明专利]新的不饱和肟衍生物及其作为潜酸的用途-CN99809811.6有效
发明人： J·L·比尔鲍姆;T·阿萨库拉;H·雅马托 -专利权人：西巴特殊化学品控股有限公司
申请日： 1999-08-06 - 公布日： 2001-09-19 - 主分类号： C07C381/00 文献下载
摘要：式Ⅰ、Ⅱ或Ⅲ化合物其中m是0或1;n是1、2或3;R1尤其是未被取代或取代的苯基,或者萘基、蒽基、菲基、杂芳基,或C2－C12链烯基;R’1尤其是1,2－亚乙烯基、亚苯基、亚萘基、二亚苯基或氧二亚苯基;R2尤其是CN、C1－C4卤代烷基、C2－C6烷氧基羰基、苯氧基羰基或苯甲酰基;R3尤其是C1－C18烷基磺酰基、苯基－C1－C3烷基磺酰基、樟脑基磺酰基或苯磺酰基;R’3尤其是C2－C12亚烷基二磺酰基、亚苯基二磺酰基、亚萘基二磺酰基、二亚苯基二磺酰基或氧二亚苯基二磺酰基;R4和R5尤其是氢、卤素、C1－C8烷基、C1－C6烷氧基、C1－C4卤代烷基、CN、NO2、C2－C6链烷酰基、苯甲酰基、苯基、－S－苯基、OR6、SR9、NR7R8、C2－C6烷氧基羰基或苯氧基羰基;R6尤其是氢、苯基或C1－C12烷基;R7和R8尤其是氢或C1－C12烷基;R9尤其是C1－C12烷基;R10、R11和R12尤其是的C1－C6烷基或苯基;通过照射作为生成酸的化合物反应,因此适合于光致抗蚀剂的应用。
不饱和衍生物及其作为用途

[发明专利]用作潜在酸供体的碘鎓盐-CN00135494.9有效
发明人： R·舒尔兹;J·－L·比尔鲍姆;J·－P·沃尔夫;S·伊尔格;H·雅马托;T·阿萨库拉 -专利权人：西巴特殊化学品控股有限公司
申请日： 2000-12-20 - 公布日： 2001-08-01 - 主分类号： G03F7/029 文献下载
摘要：本发明公开了一种辐射致敏组合物,其含有(a1)阳离子或酸催化的可聚合或交联化合物,或(a2)在酸作用下在显影剂中增加其水溶性的化合物;和(b)至少一种如下式Ⅰ的二芳基碘鎓盐其中X、X1、YAˉ等定义在说明书中描述。其条件是在碘原子上的两个苯环是不相同取代的;它具有在高敏感性、高贮存稳定性、良好溶解性和低结晶趋势。
用作潜在供体碘鎓盐

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