“S·J·方纳什”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网_中国专利网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果1个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]化学反应器模板:牺牲层的制备和模板的应用-CN02827301.X无效
发明人： S·J·方纳什;C·－Y·彭;S·阿玉斯曼;S·H·金;H·C·福雷;B·顾;W·J·南姆;K·常 -专利权人：宾夕法尼亚州立大学
申请日： 2002-12-12 - 公布日： 2005-05-11 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明涉及含有平行于模板主轴的沟状空隙的化学反应器模板。沟状空隙的横截面积可以是微米级的，也可以是纳米级的。化学反应器模板可用来生产微米级和纳米级细丝和颗粒。本发明的化学反应器模板至少具有两个基本上平行于所述模板主轴的相交沟状空隙。本发明还涉及利用牺牲层制备化学反应器模板的方法。本发明的化学反应器模板可制成具有多个沟状结构阵列，以及垂直元件，为沟状空隙与模板中形成的材料之间的接触提供通路。本发明涉及用化学反应器模板制备细丝和颗粒的方法。细丝或颗粒在沟状空隙中形成，然后挤出化学反应器模板。用化学反应器模板可以制备许多器件，在模板的基底上的第一和第二材料体系之间至少具有一个接触区。本发明另一方面提供了用本发明的化学反应器模板制备的细丝。相应地，本发明涉及具有纳米或微米级截面的定向细丝，它在具有纳米级截面的沟道中制备。
化学反应器模板牺牲制备应用

1
共 1 条

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top