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本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]产生用于阵列区的缺陷样本-CN201980029918.X有效
发明人： V·阿南塔;M·玛利亚潘;R·巴布尔纳特;G·西瓦拉曼;S·库拉达;T·杰亚瑞曼;P·俄珀鲁里;S·坎都库里 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2019-04-30 - 公布日： 2021-11-16 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供用于产生用于样品的缺陷样本的方法及系统。一种方法包含基于通过输出获取子系统的检测器产生的输出检测样品上的缺陷。对于在所述样品上的阵列区中检测到的所述缺陷，其中所述阵列区包含多个阵列单元类型，所述方法包含基于所述多个阵列单元类型堆叠所述缺陷的信息。所述堆叠包含叠加仅所述多个阵列单元类型中的第一者的设计信息与仅在所述多个阵列单元类型中的所述第一者中检测到的所述缺陷的所述信息。另外，所述方法包含基于所述堆叠的结果选择经检测缺陷的部分，借此产生所述经检测缺陷的样本。
产生用于阵列缺陷样本

[发明专利]用于在单个检验过程中的多个过程步骤的检验-CN201580038735.6有效
发明人： O·T·巴里斯;R·巴布尔纳特 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2015-07-28 - 公布日： 2020-08-04 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供用于检测晶片上的缺陷的各种实施例。一种方法包含获取通过检验系统在已对晶片执行至少第一及第二过程步骤之后执行的检验过程期间针对所述晶片产生的输出。所述第一及第二过程步骤包含分别形成所述晶片上的设计的第一及第二部分。所述设计的所述第一及第二部分在所述晶片上在空间中互斥。所述方法还包含基于所述输出检测所述晶片上的缺陷且确定所述缺陷相对于所述设计的所述第一及第二部分的位置。另外，所述方法包含基于所述缺陷相对于所述设计的所述第一及第二部分的所述位置使所述缺陷的不同部分与所述第一或第二过程步骤相关联。
用于单个检验过程中的步骤

[发明专利]基于从标准参考图像确定的属性的缺陷检测及分类-CN201580007405.0有效
发明人： L·高;A·雷-乔杜里;R·巴布尔纳特 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2015-02-05 - 公布日： 2019-06-07 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供用于对在晶片上检测到的缺陷进行分类的系统及方法。一种方法包含基于由检验系统针对晶片产生的输出来检测所述晶片上的缺陷。所述方法还包含基于对应于所述缺陷中的至少一者的标准参考图像的部分来确定所述缺陷中的所述至少一者的一或多个属性。所述方法进一步包含至少部分基于所述一或多个经确定的属性来对所述缺陷中的所述至少一者进行分类。
基于标准参考图像确定属性缺陷检测分类

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共 3 条

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