专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]光活性材料-CN202180085045.1在审
  • M·马赛杰克兹克;K·坎姆特卡尔;F·鲍塞特 - 住友化学株式会社
  • 2021-12-17 - 2023-09-12 - C07D201/00
  • 一种包含式(I)受电子单元的材料:Ar是芳族环;Ar1是取代或未取代的含有N和C环原子的5元或6元杂芳族环;当Ar1是取代或未取代的6元杂芳族环时,Ar2是取代或未取代的6元杂芳族环,其中所述环原子选自N和C;当Ar1是5元杂芳族环时,Ar2是取代或未取代的5元或6元杂芳族环;Ar3是5元环或取代或未取代的6元环;Ar4是5元环或取代或未取代的6元环或者不存在;Ar5是取代或未取代的含有至少一个芳族或杂芳族环的单环或多环基团;Ar6是取代或未取代的含有至少一个芳族或杂芳族环的单环或多环基团或者不存在;并且每个X独立地是键合至Ar3和Ar4(如果存在)的C原子的取代基,条件是至少一个X是吸电子基团;并且其中所述材料进一步包含给电子单元。#imgabs0#
  • 活性材料
  • [发明专利]化合物-CN202180076977.X在审
  • K·坎姆特卡尔;S·A·琼斯;N·雅可比-格罗斯 - 住友化学株式会社
  • 2021-12-15 - 2023-08-29 - C07D495/22
  • 一种式(I)的化合物:EAG–EDG–EAG(I)其中EDG是式(II)的供电子基团,每个EAG独立地是式(III)(II)(III)的受电子基团,每个X独立地是O或S;每个Y独立地是O、S、Se、NR8或C(R9)2,其中R8和R9在每次出现时独立地选自H或取代基;Ar3和Ar4在每次出现时独立地是单环或多环芳香族或杂芳香族基团;R1和R2在每次出现时独立地是取代基;R3‑R6各自独立地是H或取代基;Z1是直接键,或者Z1与取代基R4一起形成Ar1,其中Ar1是单环或多环芳香族或杂芳香族基团;Z2是直接键,或者Z2与取代基R5一起形成Ar2,其中Ar2是单环或多环芳香族或杂芳香族基团;p是0、1、2或3;q是0、1、2或3;R10在每次出现时是H或取代基;‑‑‑‑表示EDG的连接位置;并且R7在每次出现时是H或取代基,条件是至少一个R7是CN。所述式(I)的化合物可以用作有机光响应装置的本体异质结层中的电子受体。
  • 化合物
  • [发明专利]聚合物-CN202180066268.3在审
  • N·雅可比-格罗斯;K·坎姆特卡尔 - 住友化学株式会社
  • 2021-10-29 - 2023-06-27 - C08G61/00
  • 一种聚合物,其包括式(I)的重复结构:‑D‑X1‑A‑X2‑。D为式(II)的共轭供电子基团;A为共轭受电子基团;X1和X2各自独立地为选自以下的共轭桥基团:亚苯基、噻吩、呋喃、噻吩并噻吩、呋喃并呋喃、噻吩并呋喃、噻唑、噁唑、烯烃、炔烃和亚胺,其各自可以是未经取代的或被一个或多个取代基取代。所述聚合物的最高占据分子轨道(HOMO)能级为从真空能级起不超过5.30eV,如通过方波伏安法所测得。所述聚合物可以用作有机光检测器中的电子供体。
  • 聚合物
  • [发明专利]聚合物-CN202180023760.2在审
  • K·坎姆特卡尔 - 住友化学株式会社
  • 2021-03-23 - 2022-11-11 - C08G61/12
  • 一种聚合物,其包括式(I)的供电子重复单元以及受电子重复单元:‑(A)n‑(I),其中A在每次出现时独立地为式(II)的基团:Y在每次出现时独立地为O或S。Z为O、S或NR3,其中R3为H或取代基。R1在每次出现时独立地为H或取代基。R2在每次出现时独立地为取代基。n为至少2。所述聚合物可与有机光检测器的本体异质结层中的受电子材料组合用作供电子聚合物。
  • 聚合物
  • [发明专利]光活性材料-CN202080071754.X在审
  • K·坎姆特卡尔;B·加德纳 - 住友化学株式会社
  • 2020-10-23 - 2022-08-19 - C07D495/14
  • 一种材料,其包含式(I)的基团:其中:X和Y各自独立地选自S、O或Se;Ar1、Ar2、Ar3和Ar4各自独立地为:未取代或取代的苯,未取代或取代的5元或6元杂芳族基团,或者不存在;A1和A2各自独立地为:未取代或取代的苯,未取代或取代的5元或6元杂芳族基团,具有选自C、N、S和O的环原子的非芳族6元环,或者不存在;R1是H或取代基;R2和R3各自独立地为H或取代基;和*表示至氢或非氢取代基的连接点。
  • 活性材料
  • [发明专利]发光组合物-CN202080048111.3在审
  • K·坎姆特卡尔;N·伊斯拉姆 - 住友化学株式会社
  • 2020-07-03 - 2022-02-18 - C08G61/12
  • 一种发光组合物,其包含:发光基团和聚合物,该聚合物包含:式Ar1的重复单元,其中该Ar1是未取代的或取代有一个或多个取代基的亚芳基重复单元;和式(I)的重复单元:其中Ar2和Ar3各自独立地表示未取代或取代有一个或多个取代基的C6‑20亚芳基或5‑20元杂亚芳基,并且CB表示在Ar2和Ar3之间不提供共轭路径的共轭破坏基团;其中该聚合物在20℃下在水或C1‑8醇中的溶解度为至少0.1mg/ml。该组合物可以是发光聚合物,其中该聚合物含有发光基团。所述发光组合物可以是含有聚合物和基质材料例如氧化硅的颗粒的一部分。所述发光组合物可用于检测靶标分析物的测定。
  • 发光组合
  • [发明专利]光活性化合物-CN201980078458.X在审
  • K·坎姆特卡尔 - 住友化学株式会社
  • 2019-11-29 - 2021-07-23 - H01L51/46
  • 式(I)的化合物:EAG—EDG—EAG(I)其中EDG是包含多环杂芳族基团的给电子基团,并且每个EAG是式(II)的电子接受基团:其中R10在每次出现时为H或取代基;‑‑‑‑是与EDG的键;并且每个X1‑X4独立地为CR11或N,其中R11在每次出现时为H或取代基,条件是X1‑X4中至少一个的至少一次出现为N。该化合物可用作有机光检测器的本体异质结层中的受主。
  • 活性化合物

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