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[发明专利]镜斑位置校准方法、光刻设备和器件制造方法-CN202180078767.4在审
发明人： J·M·T·A·阿德里安斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-10-28 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： G01B9/02018 文献下载
摘要：一种用于校准干涉仪系统的反射镜上的斑点位置的方法，干涉仪系统包括至少两对干涉仪，用于提供物体围绕旋转轴的旋转位置的冗余测量，其中方法包括以下步骤：a.旋转物体；b.使用至少两对干涉仪中的每一对干涉仪来测量物体围绕旋转轴的旋转位置的变化；c.确定由至少两对干涉仪中的一对干涉仪测量的旋转位置的变化与由至少两对干涉仪中的另一对干涉仪测量的旋转位置的变化相比或者与由两对或更多对干涉仪测量的旋转位置的平均变化相比的偏差；以及d.基于所确定的偏差，获得与至少两对干涉仪中的所述一对干涉仪的反射镜上的斑点位置有关的信息。
位置校准方法光刻设备器件制造

[发明专利]位置测量系统、干涉仪系统和光刻装置-CN201980024003.X在审
发明人： C·J·C·斯库尔曼斯;J·M·T·A·阿德里安斯;T·沃斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2019-03-01 - 公布日： 2020-11-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于确定物体的位置的位置测量系统，该位置测量系统包括第一干涉仪和第二干涉仪，该第一干涉仪和第二干涉仪被布置为当物体处于第一测量区域时通过将束发射到物体的目标表面上来确定物体在第一方向上的距离。位置测量系统还包括第三干涉仪和第四干涉仪，该第三干涉仪和第四干涉仪被布置为当物体处于第二测量区域时通过将束发射到物体的目标表面上来确定物体在第一方向上的距离。来自第一干涉仪和第二干涉仪所发射的束的撞击在目标表面上的束斑在第二方向上的相对位置的布置与来自第三干涉仪和第四干涉仪所发射的束撞击在目标表面上的束斑在第二方向上的相对位置的布置不同。
位置测量系统干涉仪光刻装置

[发明专利]用于确定Z位置误差/变化以及基板台平整度的光刻装置和方法-CN200510121712.X有效
发明人： W·H·G·A·科恩恩;A·W·E·明纳尔特;L·欧维亨特;J·M·T·A·阿德里安斯;W·O·普里尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2005-12-26 - 公布日： 2006-09-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻投影系统，包括：构成为提供辐射束的照明系统；构成为支撑图案化器件的支架，该图案化器件构成为将图案赋予到光束的截面中；构成为保持基板(W)的基板台(WT)，构成为将图案化的辐射投影到基板(W)的目标部分上的投影系统；多个水平传感器(LS)，用于在多个不同的位置处感测承载于基板台(WT)上的基板的水平，和用于确定基板台(WT)的位置的系统。还提供了控制器，该控制器构成为引起基板(W)和水平传感器阵列之间从进行第一测量的第一位置向进行进一步测量的多个重叠位置的相对移动，和计算器，用于使用多个重叠测量值来计算Z位置误差测量值和/或基板台(WT)不平整度和/或水平传感器(LS)位置/偏移的测量值。
用于确定位置误差变化以及基板台平整光刻装置方法