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[发明专利]微机械结构和微机械传感器-CN202111055659.3在审
发明人： J·赖因穆特;K-U·里曹 -专利权人：罗伯特·博世有限公司
申请日： 2021-09-09 - 公布日： 2022-03-25 - 主分类号： B81B3/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种微机械结构，其具有衬底和相对于衬底可运动的震动质量，其中，扭转弹簧将震动质量与衬底连接。微机械结构还具有探测机构，其中，第一方向和基本上垂直于所述第一方向的第二方向定义衬底的主延伸平面，其中，探测机构设置用于探测震动质量围绕旋转轴线的旋转偏移，其中，旋转轴线布置在第二方向上。微机械结构还具有止挡结构，其中，止挡结构如此布置，使得震动质量的运动由止挡结构限制，其中，止挡结构设置用于，在部分弹性、部分非弹性的碰撞中吸收所述震动质量的动能。
微机结构传感器

[发明专利]用于电容式传感器或开关装置的微机械构件-CN202080028165.3在审
发明人： J·赖因穆特 -专利权人：罗伯特·博世有限公司
申请日： 2020-03-25 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： B81B3/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于电容式传感器或开关装置的微机械构件，包括：衬底(10)，其具有衬底表面(10a)；直接或间接在衬底表面(10a)上撑开的隔膜(12)，其包括无支撑的区域(14)；以及至少一个杠杆元件(18)和至少一个连接在该至少一个杠杆元件(18)上的第一电极(20)，其中，至少一个杠杆元件(18)如此连接在隔膜(12)上，使得在隔膜(12)的无支撑的区域(14)拱曲的情况下能够使至少一个杠杆元件(18)处于旋转运动中，由此，至少一个连接的第一电极(20)能够处于相对于衬底表面(10a)倾斜定向的第一调节运动(22)中；并且其中，至少一个杠杆元件(18)和至少一个连接在该至少一个杠杆元件(18)上的第一电极(20)布置在衬底表面(10a)和隔膜(12)的无支撑区域(14)的隔膜内侧(14a)之间。
用于电容传感器开关装置微机构件

[发明专利]用于制造微机械结构的方法和微机械结构-CN202110441526.3在审
发明人： A·乌尔班;J·赖因穆特;L·富克斯;T·弗里德里希 -专利权人：罗伯特·博世有限公司
申请日： 2021-04-23 - 公布日： 2021-10-26 - 主分类号： B81C1/00 文献下载
摘要：本发明提出一种用于制造微机械结构的方法和一种微机械结构。所述方法包括以下步骤：形成第一微机械功能层(5)；在所述第一微机械功能层(5)中形成多个沟槽(7)，所述沟槽具有所述第一微机械功能层(5)的上侧(O)处的扩宽的上部区域(7a)和带有基本上恒定的宽度的下部区域(7b)；在所述第一微机械功能层(5)的上侧(O)上沉积密封层(8)，以用于密封所述多个沟槽(7)，其中，在所述第一微机械功能层(5)的上侧(O)下方形成所述多个沟槽(7)的密封点(P)，并且至少部分地填充第一沟槽(7)；将所述密封层(8)减薄预给定的厚度(d)；在减薄的密封层(8‘)上方形成第二微机械功能层(13)。
用于制造微机结构方法

[发明专利]盖器件或盖晶圆的制造方法、微机械封装的制造方法、封装器件的方法、盖晶圆、盖器件-CN202110442373.4在审
发明人： J·赖因穆特;S·平特 -专利权人：罗伯特·博世有限公司
申请日： 2021-04-23 - 公布日： 2021-10-26 - 主分类号： B81B7/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种通过以下步骤制造盖器件或盖晶圆的制造方法：在第一衬底的第一衬底表面上形成第一凹槽和第二凹槽，使得借助第一凹槽由第一衬底的材料形成穿通的第一框架结构，通过第二衬底形成至少一个连续的凹部，使得借助连续的凹部由第二衬底的材料形成封闭的第二框架结构，借助封闭的第二框架结构覆盖第二凹槽，在第一框架结构和第二框架结构上构造以后的盖器件或以后的盖晶圆的部分外表面，使得第二凹槽作为通道穿通部分外表面。本发明还涉及一种用于制造用于至少一个器件的微机械封装的方法以及一种用于封装至少一个器件的方法。本发明还涉及一种盖晶圆、一种盖器件、一种用于至少一个器件的微机械封装以及一种装置。
器件盖晶圆制造方法微机封装

[发明专利]微机械传感器设备和相应的制造方法-CN202080018082.6在审
发明人： J·克拉森;J·赖因穆特;L·特伯杰 -专利权人：罗伯特·博世有限公司
申请日： 2020-02-27 - 公布日： 2021-10-08 - 主分类号： B81B7/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种微机械传感器设备和一种相应的制造方法。微机械设备构型有衬底(S)，衬底具有前侧(VS)和后侧(RS)；其中，在前侧(VS)上在横向上间隔开地形成用于感测外部加速度和/或旋转的具有惯性结构(IE)的惯性传感器区域(SB1)和用于感测外部压力(Pa)的具有膜片区域(M)的压力传感器区域(SB2)；第二微机械功能层(P2)，通过第二微机械功能层形成膜片区域(M)；施加在第二微机械功能层(P2)上的第三微机械功能层(P3)；其中，惯性结构(IS)由第二微机械功能层和第三微机械功能层(P2、P3)形成；和罩装置(K)，在惯性传感器区域(SB1)中在第一腔(C1)中包含预先确定的第一参考压力(PP1)；并且在膜片区域(M)下方形成第二腔(C2)。
微机传感器设备相应制造方法

[发明专利]微机械压力传感器装置以及相应的制造方法-CN201510016397.8有效
发明人： A·克尔布尔;J·赖因穆特;J·克拉森 -专利权人：罗伯特·博世有限公司
申请日： 2015-01-13 - 公布日： 2021-10-08 - 主分类号： B81B7/02 文献下载
摘要：本发明实现一种微机械压力传感器装置以及一种相应的制造方法。所述微机械压力传感器装置包括：具有正侧和背侧的MEMS晶片；在所述MEMS晶片的正侧上方形成的第一微机械功能层；在所述第一微机械功能层上方形成的第二微机械功能层。在所述第一微机械功能层和所述第二微机械功能层之一中构造有可偏移的第一压力探测电极。与所述可偏移的第一压力探测电极相对置地间隔开地构造有固定的第二压力探测电极。在所述MEMS晶片的正侧上方构造有弹性可偏移的膜片区域，所述膜片区域能够通过所述MEMS晶片中的进入开口施加以外部压力并且所述膜片区域通过塞状的连接区域与所述可偏移的第一压力探测电极连接。
微机压力传感器装置以及相应制造方法

[发明专利]压力传感器装置以及用于制造压力传感器装置的方法-CN202080011766.3在审
发明人： J·赖因穆特 -专利权人：罗伯特·博世有限公司
申请日： 2020-01-30 - 公布日： 2021-09-14 - 主分类号： G01L9/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于压力传感器(1)、尤其是电容式压力传感器(1)的压力传感器装置(10)，所述压力传感器装置具有由所述压力传感器装置(10)的能够运动的感测膜片(178)和位置固定的对应电极(132)限界的压力空间(12)，其中，所述感测膜片(178)和所述对应电极(132)分别在所述压力传感器装置(10)的纵向方向(Lr)和横向方向(Qr)上走向，其中，所述感测膜片(178)相对于所述对应电极(132)借助于至少一个微机械的弹簧元件(155)、尤其是多个微机械的弹簧元件(155)直接地或者间接地弹动支承、尤其是平面地弹动支承在所述压力空间(12)中。
压力传感器装置以及用于制造方法

[发明专利]用于加工衬底的设备-CN201610082140.7有效
发明人： F·赖兴巴赫;J·弗莱;M·阿梅特沃布拉;P·卡佩;J·巴茨;J·赖因穆特;J·阿姆托尔 -专利权人：罗伯特·博世有限公司
申请日： 2016-02-05 - 公布日： 2021-09-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种用于加工衬底的设备(100)，所述设备具有：‑至少一个真空腔室(10)，在所述至少一个真空腔室中能够调节限定的气压；‑用于加热所述衬底的加热装置；以及‑布置在所述真空腔室(10)之外的激光器装置(20)，其中，所述激光器装置(20)相对于所述衬底可运动，其中，借助所述激光器装置(20)能够通过熔化衬底材料封闭布置在所述真空腔室(10)中的衬底的至少一个空腔。
用于加工衬底设备

[发明专利]传感器装置和用于制造传感器装置的方法-CN201980085000.7在审
发明人： H·阿尔特曼;J·赖因穆特 -专利权人：罗伯特·博世有限公司
申请日： 2019-12-18 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： B81C1/00 文献下载
摘要：本发明提出一种传感器装置(1)，所述传感器装置包括至少一个衬底(2)；边缘区域(RB，RS)，所述边缘区域布置在所述衬底(2)上并且在横向上限界所述衬底(2)上方的内部区域(IB)；膜片(7)，所述膜片锚定在所述边缘结构(RS)上并且至少部分地跨越所述内部区域(IB)，其中，所述膜片(7)在所述内部区域(IB)中包括至少一个由于压力(p)而可运动的区域(BB)，所述可运动的区域封闭所述膜片(7)与所述衬底(2)之间的腔(K)；第一中间载体(ZT1)，所述至少一个第一中间载体在所述膜片(7)下方在所述可运动的区域(BB)中延伸，并且与所述膜片(7)连接，并且具有至少一个沟槽(G)。
传感器装置用于制造方法

[发明专利]微机械构件和用于微机械构件的制造方法-CN201980085003.0在审
发明人： H·阿尔特曼;T·弗里德里希;C·赫尔梅斯;P·施莫尔林格鲁贝尔;H·韦伯;J·赖因穆特 -专利权人：罗伯特·博世有限公司
申请日： 2019-12-13 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： B81B3/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种微机械构件，其膜片(12)保持与腔的底侧间隔开并且在其膜片内侧(12a)处具有支撑结构(20a)，其中，所述支撑结构(20a)中的每个都具有各自的第一边缘元件结构(32)、各自的第二边缘元件结构(34)和各自的布置在所分配的第一边缘元件结构(32)与所分配的第二边缘元件结构(34)之间的至少一个中间元件结构(36)，其中，针对所述支撑结构(20a)中的每个都能够分别限定对称平面(38)，关于所述对称平面，至少相应的支撑结构(20a)的所述第一边缘元件结构(32)和所述相应的支撑结构(20a)的第二边缘元件结构(34)是镜像对称的，其中，在所述支撑结构(20a)中的每个中，其第一边缘元件结构(32)的垂直于其对称平面(38)的第一最大延展(a1)及其第二边缘元件结构(34)的垂直于其对称平面(38)的第二最大延展(a2)大于其至少一个中间元件结构(36)的垂直于其对称平面(38)的至少一个最大延展(a3)。
微机构件用于制造方法

[发明专利]转速传感器-CN201610808185.8有效
发明人： J·赖因穆特;A·拉斯尔;O-A·普吕茨 -专利权人：罗伯特·博世有限公司
申请日： 2016-07-15 - 公布日： 2021-06-22 - 主分类号： G01C19/5747 文献下载
摘要：本发明涉及转速传感器，其具有：具有主延伸平面的基体；相对于基体可运动的第一结构；相对于基体和相对于第一结构可运动的第二结构，其中，第一结构包括至少一个第一驱动装置，其中，第二结构包括至少一个第二驱动装置，其中，为了通过第一驱动装置和第二驱动装置之间的交互作用使不仅第一结构从第一结构的基本上与驱动方向平行的静止位置中而且第二结构从第二结构的基本上与驱动方向平行的静止位置中共同偏转出来，第一驱动装置和第二驱动装置这样布置，使得第一结构和第二结构能够激励基本上反相的、分别具有基本上与驱动方向平行的运动分量的振动。
转速传感器

[发明专利]微机械光学构件和用于制造微机械光学构件的方法-CN202011388558.3在审
发明人： J·赖因穆特 -专利权人：罗伯特·博世有限公司
申请日： 2020-12-01 - 公布日： 2021-06-04 - 主分类号： H01S5/022 文献下载
摘要：本发明涉及一种微机械光学构件，具有光学窗、间隔保持件和构件衬底，‑其中，间隔保持件具有形成腔的缺口，该腔由光学窗和构件衬底限界，‑其中，在腔中布置有光学半导体组件，其固定在构件衬底上并且用于发射光辐射经过光学窗，‑其中，光学窗和间隔保持件借助于第一材料锁合连接部相互连接，‑其中，间隔保持件和构件衬底借助于第二材料锁合连接部相互连接，‑其中，在光学窗的俯视图中，第一材料锁合连接部布置在光学窗下方并且第二材料锁合连接部布置在光学窗旁边。本发明也涉及一种用于制造微机械光学构件的方法。
微机光学构件用于制造方法

[发明专利]用于微机械系统的制造方法和微机械系统-CN202010984667.5在审
发明人： J·赖因穆特;T·弗里德里希 -专利权人：罗伯特·博世有限公司
申请日： 2020-09-18 - 公布日： 2021-03-19 - 主分类号： B81C1/00 文献下载
摘要：本发明提出一种用于微机械系统的制造方法和微机械系统。包括以下步骤：将第一微机械功能层施加在衬底上；在第一各向异性的蚀刻步骤中在第一微机械功能层的第一区域中构造多个二维布置的、彼此间隔开的、长形的蚀刻沟，其中，蚀刻沟在一个或两个纵向端部处通过中断区域与相邻的蚀刻沟间隔开，直至小于第一微机械功能层的厚度的第一蚀刻深度；并且在随后的各向同性的蚀刻步骤中将蚀刻沟扩展直至大于第一蚀刻深度并且小于第一微机械功能层的厚度的第二蚀刻深度，其中，蚀刻沟在第一微机械功能层的内部扩开并且下部蚀刻出中断区域，使得相邻的蚀刻沟在第一微机械功能层的内部在中断区域下方相互连接，其中，中断区域保持在第一微机械功能层的上侧上。
用于微机系统制造方法

[发明专利]用于压力传感器设备的微机械构件-CN201780032847.X有效
发明人： J·赖因穆特 -专利权人：罗伯特·博世有限公司
申请日： 2017-05-10 - 公布日： 2021-03-12 - 主分类号： G01L9/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于压力传感器设备的微机械构件，所述微机械构件具有膜片(16)、至少一个第一定子电极(28a)、至少一个第二定子电极(28b)和摆杆结构(22)，所述膜片将参考压力(pr)与外部压力(p)隔离，所述摆杆结构能够围绕旋转轴线(20)翻转并且具有至少一个第一执行器电极(24a)和至少一个第二执行器电极(24b)，其中，所述摆杆结构(22)与所述膜片(16)如此连接，使得在所述外部压力(p)与所述参考压力(pr)之间压力相等的情况下，所述摆杆结构(22)和所述摆杆结构的执行器电极(24a，24b)处于其初始位置中，其中，在所述摆杆结构(22)和所述摆杆结构的执行器电极(24a，24b)处于其初始位置中的情况下，第一电容与第二电容存在偏差，所述第一电容处于所述至少一个第一执行器电极(24a)与所述至少一个第一定子电极(28a)之间，所述第二电容处于所述至少一个第二执行器电极(24b)与所述至少一个第二定子电极(28b)之间。
用于压力传感器设备微机构件

[发明专利]电接触部和用于制造电接触部的方法-CN201980044251.0在审
发明人： T·沙里;J·赖因穆特;S·马约尼;M·库恩克 -专利权人：罗伯特·博世有限公司
申请日： 2019-06-25 - 公布日： 2021-03-02 - 主分类号： B81B7/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种在重布线(2)和导体区域(3)之间的电接触部(1)，其中，所述导体区域(3)布置在SOI晶片(5)或SOI芯片(5)上方的导体层(4)中，其中，在所述导体层(4)上方并且在所述重布线(2)下方布置有覆盖层(6)，其特征在于，所述覆盖层(6)具有接触部区域(7)，其中，所述接触部区域(7)借助于第一凹槽布置(8)相对于剩余的覆盖层(6)绝缘，其中，至少在所述接触部区域(7)中构造有开口(9)，其中，在所述开口(9)中布置有金属材料(10)，其中，所述金属材料(10)使所述重布线(2)和所述导体区域(3)连接。
接触用于制造方法