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[发明专利]反馈系统-CN201880031848.7有效
发明人： W·德博斯谢尔;I·范德普特 -专利权人：梭莱先进镀膜工业有限公司
申请日： 2018-05-17 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种用于控制通过真空涂覆工艺被施覆在基板(10)上的一单层或多层堆叠的特性的反馈系统(210)，所述真空涂覆工艺由多个处理控制装置来控制，包含：至少一个监控设备(220)，所述至少一个监控设备用于实施用以确定在空间上分布于涂覆的基板(11)上的多个位置中的每一个处的测量信号的至少二个不同的测量技术，由此第一测量技术适于被同时地施用至多个位置，并且第二测量技术适于被施用到至少一个位置，所述第一测量技术和所述第二测量技术中的一个是光谱透射测量，至少一个处理单元(230)，所述至少一个处理单元经调适以用于接收测量信号，并且被配置为用于从中确定在所述多个位置处的第一层特性的实际的数值，及在所述至少一个位置处的不同于所述第一层特性的第二层特性的实际的数值，和/或用于确定在实际的第一层特性数值和实际的第二层特性数值与所希望的层特性数值之间的偏差，及控制器(240)，所述控制器用于提供用于致动所述多个处理控制装置的致动信号，并且用于基于确定的数值和/或在实际的层特性数值与所希望的层特性数值之间的偏差并且基于来自将层参数表示为所述多个处理控制装置中的至少两个的设定和/或变化的函数的一层模型的知识来产生另外的控制信号而在所述涂覆工艺中进一步地驱动所述多个处理控制装置的至少一个，使得层堆叠的特性落在预定的公差值内。
反馈系统

[发明专利]可普遍安装的端块-CN201780070192.5有效
发明人： W·德博斯谢尔;I·范德普特;N·德维尔德 -专利权人：梭莱先进镀膜工业有限公司
申请日： 2017-11-23 - 公布日： 2022-04-01 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：一种用在沉积装置中的端块(100)，用于将圆柱体可消耗靶(150)与磁棒连接到沉积装置的外部，包括至少提供可消耗靶与磁棒之间的相对移动的驱动单元，该驱动单元包括从动轴。驱动单元包括可消耗靶马达和可消耗靶驱动轴和/或磁棒马达和磁棒驱动轴。包括端块(100)的端块壳体(160)基本上与从动轴轴向对称并且同轴。由于轴对称性，端块是可普遍安装的。
普遍安装

[发明专利]用于对非平坦基材进行溅射涂布的运动系统-CN202080046915.X在审
发明人： W·德博斯谢尔;I·范德普特;N·德维尔德 -专利权人：梭莱先进镀膜工业公司
申请日： 2020-07-14 - 公布日： 2022-02-08 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：在第一方面，本发明涉及一种运动系统(300)，用于将非平坦基材(100)移动通过溅射流量分布(110)，而不使非平坦基材(100)周向暴露于所述溅射流量分布(110)。该运动系统(300)包括运动装置，以进行：第一运动(310)，其沿溅射流量分布(110)平移运输非平坦基材(100)；以及第二运动(320、330、340)，其相对于溅射流量分布(110)平移和/或转动非平坦基材(100)。
用于平坦基材进行溅射运动系统

[发明专利]带附接的传感器的磁棒-CN202080032261.5在审
发明人： F·T·汉布尔;W·德博斯谢尔;I·范德普特 -专利权人：梭莱先进镀膜工业公司
申请日： 2020-03-31 - 公布日： 2021-12-03 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种用于溅射磁控管系统的磁棒结构(101)包括磁棒(102)，具有附接其上的用于当安装在磁棒结构(101)上时感测管状溅射靶(200)的内在和/或外在特性的感测设备(110)。
带附接传感器

[发明专利]带有用于监测和控制的控制器的磁控管-CN201980068779.1在审
发明人： W·德博斯谢尔;I·范德普特;N·德维尔德 -专利权人：梭莱先进镀膜工业公司
申请日： 2019-10-22 - 公布日： 2021-06-04 - 主分类号： H01J37/34 文献下载
摘要：本文描述了一种用于溅射设备的磁控管结构。磁控管结构包括磁控管(100，200，300，401)和刚性地连接到磁控管(100，200，300，401)的控制器(106，206，301，402)。控制器(106，206，301，402)适于至少部分地控制溅射单元的状况和/或功能。
带有用于监测控制控制器磁控管

[发明专利]具有端块的设备、组件和溅射系统以及提供RF电力的方法-CN201580066682.9有效
发明人： W·德博斯谢尔;I·范德普特 -专利权人：梭莱先进镀膜工业有限公司
申请日： 2015-12-08 - 公布日： 2020-01-24 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种用在溅射系统(600)中的设备(602)，至少包括定位在溅射系统的相对侧处的第一端块(631)和第二端块(632)。该设备适于使得包括至少一个靶管或溅射磁控管的靶组件在被安装在第一端块和第二端块(631、632)上时可以在组件的两侧都利用RF电力被主动供电，并且使得靶组件在被安装时不在靶管或溅射磁控管的两个末端处同时利用RF电力被持续地主动供电。还提供了包括所述设备和控制单元的组件(601)，其中控制单元用于控制通过RF电力对靶组件的相对侧的供电，使得靶组件在被安装时不在靶管或溅射磁控管的两个末端处同时利用RF电力被持续地主动供电，还提供了用于将RF电力施加到阻抗靶组件的方法。
具有两个设备包括组件溅射系统以及使用提供 rf 电力方法

[发明专利]具有动靶的溅镀装置-CN201580037325.X有效
发明人： W·德博斯谢尔;I·范德普特 -专利权人：梭莱先进镀膜工业有限公司
申请日： 2015-07-08 - 公布日： 2019-07-23 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：一种用于在真空室中将镀层沉积在基底上的溅镀装置(100)，镀层在基底表面的每个点具有镀层性质。溅镀装置包括至少一个端块(120)，每个端块适于保持具有在第一方向上的纵向轴线的圆柱形靶(160)。溅镀装置还包括第一驱动器件(190)，其用于提供至少一个圆柱形靶(160)围绕其纵向轴线的旋转运动。溅镀装置还包括第二驱动器件(145)，其用于在第二方向上对至少一个端块(120)施加平移运动，从而在沿着第二方向的运动轨迹的至少相当大的部分期间使靶的轴线保持平行。第一和第二驱动器件适于在溅镀期间同时在真空室中操作。第一驱动器件的运动不影响沿着与第二方向在基底(170)上的垂直投影相对应的基底表面上的方向溅镀在基底上的镀层的均匀性。
具有装置

[发明专利]具有高硬度的可旋转溅射磁控管-CN200980117737.9有效
发明人： P·戈德里斯;I·范德普特 -专利权人：贝卡尔特先进涂层公司
申请日： 2009-05-06 - 公布日： 2011-04-20 - 主分类号： H01J37/34 文献下载
摘要：本发明介绍了可插入可旋转目标中的溅射磁控管(300)。磁控管设计成单件的多壁管(102、203)，具有在管的长度上延伸的隔腔(316、316′、318、318′)。多壁管与现有技术磁控管相比产生了硬得多的磁控管载体结构。因此，磁场产生器可以安装在隔腔内部，且在磁体和目标表面之间的距离可容易地调节，因为管比产生器硬得多。另外，冷却剂槽道可以包含在管内部，并靠近管的外壁，这样，可以邻近磁场产生器供应冷却剂。磁控管增大的硬度使得目标管至少在该目标的使用寿命的一部分中能够由磁控管承载，而不是周围其它方式。因此，可以使用薄的目标载体管，因为它们不必承载磁控管，从而导致使用该目标时间更长。
具有硬度旋转溅射磁控管

[发明专利]多槽真空连接器-CN200980104158.0无效
发明人： I·范德普特;P·戈德里斯 -专利权人：贝卡尔特先进涂层股份有限公司
申请日： 2009-01-28 - 公布日： 2011-01-05 - 主分类号： H01J37/34 文献下载
摘要：本发明涉及一种连接系统(10)，用于通过界面环(22)和夹环(26)将柱形目标(12)可释放地夹持在心轴(14)上，因此，界面环(22)和柱形目标(12)有接合表面，该接合表面包括两个或更多圆形槽(18)。在另一实施例中，夹环和界面环是相同零件。本发明连接系统的优点是它能够合适装配(square fitting)，并避免较高机械应力。
真空连接器

[发明专利]用于溅射装置端块的插件-CN200780022992.6无效
发明人： I·范德普特;W·德博斯谢尔 -专利权人：贝卡尔特先进涂层公司
申请日： 2007-06-13 - 公布日： 2009-07-01 - 主分类号： H01J37/34 文献下载
摘要：本发明介绍了一种用于引入到磁控管溅射装置的安装基座(314)和端块(310)之间的插件(340)。该插件的一端和另一端分别具有与端块界面(322)相同的复制端块界面以及与安装基座界面(320)相同的复制安装基座界面(320’，322’)。插件的内部设有用于在安装基座(314)和端块(310)之间传递冷却剂、电流和原动力的传递杆(342)和管道(444，444’)。插件(340)用于调节靶材和基体之间的距离。该插件的一种有利的实施例中结合有弹性装置，用于适应由于靶材管的热膨胀或下垂造成的端块的轻微移动。在另一种有利的实施例中，插件非常长，以至于与基体的平面交叉。以这种方式，可以便利地安装靶材，以便对与基体的正常镀覆侧相反的另外一侧镀覆，而不需要对溅射装置进行较大的改造。
用于溅射装置插件

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