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[发明专利]内窥镜以及内窥镜系统-CN201980045624.6有效
发明人：尾登邦彦;池谷浩平 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2019-12-24 - 公布日： 2022-07-19 - 主分类号： G02B23/24 文献下载
摘要：内窥镜(10)具备：被外径1毫米以下的外管(141)包覆的插入部(14)；观察光学系统，其固定于所述插入部(14)的前端，并且包括一边的长度为所述插入部的外径的6成以下的矩形的摄像元件；照明用光纤，其配置在所述外管(141)的内表面和所述观察光学系统的边缘之间并贯通所述外管；缆线束，其与所述摄像元件连接并贯通所述外管；以及连接器(27)，其连接所述缆线束以及所述照明用光纤。
内窥镜以及系统

[发明专利]内窥镜顶部的安装装置-CN201880013351.2有效
发明人：杉田宪幸 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2018-04-19 - 公布日： 2022-07-19 - 主分类号： A61B1/00 文献下载
摘要：本公开的实施方式包括一种用于在治疗过程中与内窥镜一起使用的内窥镜前端组件。内窥镜前端组件可以包括基部，其中所述基部被构成为防止在治疗过程中从内窥镜的顶部脱落，并被构成为可以收容内窥镜的顶部。内窥镜前端组件可以包括通过织带连接的多个支撑杆，多个支撑杆在插入时可以平坦折叠，在取出时可以变成球囊状。
内窥镜顶部安装装置

[发明专利]电子内窥镜用处理器以及电子内窥镜系统-CN201880056378.X有效
发明人：牧野贵雄;尤尔根·格拉茨 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2018-11-02 - 公布日： 2022-07-19 - 主分类号： A61B1/045 文献下载
摘要：一种电子内窥镜用处理器，其具备：区域检测部，该区域检测部被配置为根据活组织的摄像图像的像素信息对要进行增强处理的增强处理对象区域进行检测；以及增强处理部，该增强处理部被配置为对由所述区域检测部检测的增强处理对象区域进行增强处理。所述区域检测部被配置为在由帧包围的区域中，所述帧包围以关注像素为中心的区域，在多个像素排列方向中的任意一个方向上，当所述关注像素的信号电平值比位于距所述关注像素最远的两侧的位置的2个最远像素的信号电平值小时，改变所述帧的尺寸而反复进行候选提取处理，所述候选提取处理把所述关注像素作为增强处理对象区域的候选而提取，并基于作为所述候选而提取的像素来确定所述增强处理对象区域。
电子内窥镜用处以及系统

[发明专利]光学元件成型用玻璃制成型模具及其制造方法以及光学元件的制造方法-CN202210012503.5在审
发明人：仓泽裕己;佐藤浩一;白石幸一郎 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2022-01-06 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： C03C3/091 文献下载
摘要：[课题]提供一种光学元件成型用玻璃制成型模具及其制造方法以及光学元件的制造方法，该玻璃制成型模具在通过模压成型大量生产光学元件时，能够抑制光学元件产生形状偏差。[解决手段]一种光学元件成型用的玻璃制成型模具，其在590℃的温度下退火前后的牛顿环变化量A590℃为0.00条以上1.50条以下。
光学元件成型玻璃制成模具及其制造方法以及

[发明专利]玻璃制成型模具的制造方法和光学元件的制造方法-CN202210005060.7在审
发明人：仓泽裕己;佐藤浩一;白石幸一郎 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2022-01-04 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： C03B23/00 文献下载
摘要：[课题]提供一种玻璃制成型模具的制造方法和光学元件的制造方法，该玻璃制成型模具的制造方法能够以高精度转印母模的表面形状，制造出玻璃制的成型模具。[解决手段]一种具有凹面形状或凸面形状的成型面的玻璃制成型模具的制造方法。其中包括如下形成上述成型面：在使加热到温度Ta的玻璃坯料与母模表面抵接的状态下进行挤压；在上述抵接的状态下将玻璃坯料冷却；在上述冷却后，解除上述抵接的状态，抵接状态的解除在玻璃坯料的温度为抵接状态解除允许温度Tb以下时进行，Tb为Tb＝Tg‑200℃，Tg为玻璃坯料的玻璃化转变温度(单位：℃)，在上述冷却中，玻璃坯料的温度为Tc时的母模的温度为Tk，Tk＝Tc‑A，A超过0℃。
玻璃制成模具制造方法光学元件

[发明专利]光学元件成型用玻璃制成型模具和光学元件的制造方法-CN202210008582.2在审
发明人：仓泽裕己;佐藤浩一;白石幸一郎 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2022-01-05 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： C03B11/08 文献下载
摘要：[课题]提供一种弹性的温度依赖性小的光学元件成型用玻璃制成型模具和光学元件的制造方法。[解决手段]一种光学元件成型用的玻璃制成型模具。上述玻璃为铝硅酸盐玻璃，在上述玻璃的摩尔％表示的玻璃组成中，SiO2与Al2O3的总含量为60％以上并且Li2O、Na2O和K2O的总含量相对于MgO含量的摩尔比(Li2O+Na2O+K2O)/MgO为0.000～0.400的范围。
光学元件成型玻璃制成模具制造方法

[发明专利]内窥镜顶部的安装装置-CN201880013375.8有效
发明人：杉田宪幸 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2018-04-19 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： A61B1/00 文献下载
摘要：本公开的实施方式包括一种用于在治疗过程中与内窥镜一起使用的内窥镜前端组件。内窥镜前端组件可以包括基部，其中所述基部被构成为防止在治疗过程中从内窥镜的顶部脱落，并被构成为可以收容内窥镜的顶部。内窥镜前端组件可以包括通过织带连接的多个支撑杆，多个支撑杆在插入时可以平坦折叠，在取出时可以变成球囊状。
内窥镜顶部安装装置

[发明专利]具有广角透镜和工作通道的内窥镜-CN201880015741.3有效
发明人：托马斯·菲巴赫;蒂尔曼·施勒特 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2018-03-28 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： A61B1/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种内窥镜包括内窥镜头(1)、位于内窥镜头(1)的远端上的广角透镜(2)、以及在内窥镜头(1)中延伸的工作通道(7)。在广角透镜(2)的近端，工作通道(7)朝着内窥镜头(1)的外周侧向地弯曲，其中，在内窥镜头(1)的侧面上形成有远端工作通道开口(71)。
具有广角透镜工作通道内窥镜

[实用新型]内窥镜装置-CN202123042396.0有效
发明人：早川和彦 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2019-03-18 - 公布日： 2022-07-12 - 主分类号： A61B1/00 文献下载
摘要：提供一种内窥镜装置，能够将附着的异物和水滴等清洗干净。内窥镜装置(10)在用于插入体内的插入部(14)的前端具有观察窗(132)，该内窥镜装置具备清洗部件(30)，所述清洗部件(30)沿着观察窗(132)的曲面转动以清洗观察窗(132)。
内窥镜装置

[发明专利]图案描绘方法、光掩模及其制造方法、显示装置的制造方法-CN201811530914.3有效
发明人：金谷健一 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2018-12-14 - 公布日： 2022-07-08 - 主分类号： G03F1/76 文献下载
摘要：本发明涉及图案描绘方法、光掩模的制造方法、光掩模、以及显示装置的制造方法。降低图案CD的变动，得到稳定的成品率。图案描绘方法包括：校正工序，依据预先求出的校正值来校正设计图案数据，从而得到校正图案数据，该校正值以使通过对光掩模进行曝光而在被转印体上得到的孔/点图案的CD与目标值相等的方式求出；以及描绘工序，应用校正图案数据，利用描绘装置来进行描绘。描绘装置在与光掩模基板面平行的面内，在X方向和与X方向垂直的Y方向上通过CD控制精度不同的驱动方式被驱动。在校正工序中，通过在设计图案数据中对孔/点图案的CD进行如下校正而得到校正图案数据，在该校正中，使在X方向和Y方向中的CD控制精度较高的方向上的CD变更。
图案描绘方法光掩模及其制造显示装置

[发明专利]掩模坯料、转印用掩模及半导体器件的制造方法-CN202210271072.4在审
发明人：宍户博明 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2017-08-02 - 公布日： 2022-06-28 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：本发明提供一种掩模坯料、转印用掩模及半导体器件的制造方法。掩模坯料(100)在透光性基板(1)上具备遮光膜(2)，其特征在于，遮光膜具有从透光性基板侧起下层和上层依次叠层的结构，下层由含有硅和氮的材料形成，上层由含有硅和氧的材料形成，对ArF曝光光的光学密度为2.5以上，表面反射率为30％以下，背面反射率为40％以下，对900nm波长的光的透过率为50％以下，下层对900nm波长的光的消光系数为0.04以上，厚度为60nm以下。
坯料转印用掩模半导体器件制造方法

[发明专利]光掩模、显示装置的制造方法-CN202210373658.1在审
发明人：三好将之;一之濑敬 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2018-09-11 - 公布日： 2022-06-24 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：本发明提供光掩模、显示装置的制造方法。光掩模具有在透明基板上形成的转印用图案，转印用图案包括：主图案，其由透光部构成，直径为W1；辅助图案，其配置在所述主图案的附近，不被曝光装置析像，具备宽度d；及遮光部，其构成除了主图案和辅助图案之外的区域，遮光部是在透明基板上至少形成遮光膜而成的，辅助图案隔着遮光部而包围主图案的周围，且由在透明基板上形成半透光膜而成的相移部构成，该半透光膜具有使曝光用光的代表波长的光在大致180度的范围内相移的相位特性，并且具有针对代表波长的光的透射率T，辅助图案的一部分区域的透射光量比辅助图案的其他区域的透射光量低，光掩模被实施了扩张主图案的宽度的扩张修正。
光掩模显示装置制造方法

[发明专利]研磨液、玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法-CN202111254736.8有效
发明人：泷泽利雄 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2018-10-31 - 公布日： 2022-06-24 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明涉及研磨液、玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法，在通过激光衍射/散射法对研磨液中包含的氧化铈求出的粒度分布中，将从小粒径侧起的累积颗粒体积达到全部颗粒体积的x[％]时的粒径设为Dx[μm]时，D5为1μm以下，D95与D5之差为3μm以上。
研磨玻璃制造方法以及磁盘

[发明专利]光掩模的修正方法、光掩模的制造方法、光掩模和显示装置的制造方法-CN201810877657.4有效
发明人：三好将之;一之濑敬 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2018-08-03 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： G03F1/72 文献下载
摘要：本发明涉及光掩模的修正方法、光掩模的制造方法、光掩模和显示装置的制造方法。[课题]本发明提供在稳定的条件下高效地对相移膜进行修正的方法及其相关技术。[解决手段]一种在透明基板上具备将遮光膜和半透光膜分别进行图案化而形成的、具有透光部、遮光部和宽度d1(μm)的半透光部的转印用图案的光掩模的修正方法，修正方法具有：确定在半透光部产生的缺陷的工序；和在所确定的缺陷的位置形成修正膜从而形成具有d2(μm)的宽度的修正半透光部的修正膜形成工序，该修正方法中，d13.0，半透光膜对曝光光中所含的代表波长具有透射率T1(％)、并且具有使代表波长的光的相位偏移大致180度的相移特性，修正膜对代表波长具有透射率T2(％)、并且具有使代表波长的光的相位偏移大致180度的相移特性，T2T1且d2d1、或者T2T1且d2d1。
光掩模修正方法制造显示装置

[发明专利]掩模坯料及其制造方法、转印用掩模及其制造方法、及显示装置的制造方法-CN202210185936.0在审
发明人：浅川敬司;田边胜;安森顺一 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2022-02-28 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：本发明提供能够抑制在将图案形成用的薄膜或具有转印图案的薄膜剥离之后透光性基板的主表面的形状劣化、且能够有助于再循环时的制造成品率的提高的掩模坯料。该掩模坯料具备透光性基板、和设置于透光性基板的主表面上的图案形成用的薄膜，薄膜含有金属、硅及氮，薄膜的外周部的膜厚小于薄膜的除上述外周部以外的部分的膜厚，薄膜的上述外周部的氮含量相对于硅含量的比率小于薄膜的除外周部以外的部分的氮含量相对于硅含量的比率。
坯料及其制造方法转印用掩模显示装置