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[发明专利]光掩模、显示装置的制造方法-CN202210373658.1在审
发明人：三好将之;一之濑敬 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2018-09-11 - 公布日： 2022-06-24 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：本发明提供光掩模、显示装置的制造方法。光掩模具有在透明基板上形成的转印用图案，转印用图案包括：主图案，其由透光部构成，直径为W1；辅助图案，其配置在所述主图案的附近，不被曝光装置析像，具备宽度d；及遮光部，其构成除了主图案和辅助图案之外的区域，遮光部是在透明基板上至少形成遮光膜而成的，辅助图案隔着遮光部而包围主图案的周围，且由在透明基板上形成半透光膜而成的相移部构成，该半透光膜具有使曝光用光的代表波长的光在大致180度的范围内相移的相位特性，并且具有针对代表波长的光的透射率T，辅助图案的一部分区域的透射光量比辅助图案的其他区域的透射光量低，光掩模被实施了扩张主图案的宽度的扩张修正。
光掩模显示装置制造方法

[发明专利]光掩模的修正方法、光掩模的制造方法、光掩模和显示装置的制造方法-CN201810877657.4有效
发明人：三好将之;一之濑敬 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2018-08-03 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： G03F1/72 文献下载
摘要：本发明涉及光掩模的修正方法、光掩模的制造方法、光掩模和显示装置的制造方法。[课题]本发明提供在稳定的条件下高效地对相移膜进行修正的方法及其相关技术。[解决手段]一种在透明基板上具备将遮光膜和半透光膜分别进行图案化而形成的、具有透光部、遮光部和宽度d1(μm)的半透光部的转印用图案的光掩模的修正方法，修正方法具有：确定在半透光部产生的缺陷的工序；和在所确定的缺陷的位置形成修正膜从而形成具有d2(μm)的宽度的修正半透光部的修正膜形成工序，该修正方法中，d13.0，半透光膜对曝光光中所含的代表波长具有透射率T1(％)、并且具有使代表波长的光的相位偏移大致180度的相移特性，修正膜对代表波长具有透射率T2(％)、并且具有使代表波长的光的相位偏移大致180度的相移特性，T2T1且d2d1、或者T2T1且d2d1。
光掩模修正方法制造显示装置

[发明专利]光掩模及其修正方法、制造方法、显示装置的制造方法-CN201811056319.0有效
发明人：三好将之;一之濑敬 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2018-09-11 - 公布日： 2022-05-03 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：光掩模及其修正方法、制造方法、显示装置的制造方法，以稳定的条件高效地修正在转印用图案上产生的缺陷，并恢复该转印用图案的转印性。光掩模具备在透明基板上形成的转印用图案。转印用图案包括：主图案，其由透光部构成，直径为W1(μm)；辅助图案，其配置在主图案的附近，不被曝光装置析像，具备宽度d(μm)；及遮光部，其构成除了主图案和辅助图案以外的区域。遮光部是在透明基板上至少形成遮光膜而成的。辅助图案具有针对曝光用光的代表波长的光的透射率T(％)，并且隔着遮光部而将主图案的周围包围。在辅助图案上产生白缺陷且该白缺陷为辅助图案的面积的1/8以下时，在白缺陷部分形成遮光性的补充膜。
光掩模及其修正方法制造显示装置