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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]用于化学机械抛光的小型垫的载体-CN202310411882.X在审
发明人： H·陈;S·M·苏尼卡;H·C·陈;E·刘;G·H·Y·西恩;S-S·常 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-12-02 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：一种化学机械抛光系统包括基板支撑件、抛光垫组件、抛光垫载体及驱动系统，该基板支撑件经配置以在抛光操作期间固持基板，该抛光垫组件包含膜与抛光垫部分，该驱动系统经配置而引起该基板支撑件与该抛光垫载体之间的相对运动。抛光垫载体包含壳套，该壳套具有空腔与孔隙，该孔隙将该空腔连接到该壳套的外部。该抛光垫组件定位于该壳套中使得该膜将该空腔分成第一腔室与第二腔室，且该孔隙自该第二腔室延伸。该抛光垫载体与该抛光垫组件经定位与配置，使得至少在有充足压力施加于该第一腔室期间，该抛光垫部分突出穿过该孔隙。
用于化学机械抛光小型载体

[发明专利]用于化学机械研磨的方法、系统与研磨垫-CN202010973754.0有效
发明人： H·C·陈;P·D·巴特菲尔德;J·古鲁萨米;J·G·方;S-S·常;J·张;E·刘 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-07-10 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：化学机械研磨可用于“修整研磨”，其中在基板的前表面的受限区域上执行研磨。研磨垫与基板之间的接触区域可基本上比基板的半径表面小。在研磨期间，研磨垫可经历轨道运动。在轨道运动期间，可将研磨垫维持在固定的角定向上。接触区域可以是弧形。可通过从研磨垫的上部向下凸出的一个或更多个下部提供接触区域。可将研磨垫的周边部分垂直地固定至环形构件并且周边部分内的研磨垫的剩余部分可自由垂直。
用于化学机械研磨方法系统

[发明专利]用于化学机械抛光的小型垫的载体-CN201680078495.7有效
发明人： H·陈;S·M·苏尼卡;H·C·陈;E·刘;G·H·Y·西恩;S-S·常 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-12-02 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：一种化学机械抛光系统包括基板支撑件、抛光垫组件、抛光垫载体及驱动系统，该基板支撑件经配置以在抛光操作期间固持基板，该抛光垫组件包含膜与抛光垫部分，该驱动系统经配置而引起该基板支撑件与该抛光垫载体之间的相对运动。抛光垫载体包含壳套，该壳套具有空腔与孔隙，该孔隙将该空腔连接到该壳套的外部。该抛光垫组件定位于该壳套中使得该膜将该空腔分成第一腔室与第二腔室，且该孔隙自该第二腔室延伸。该抛光垫载体与该抛光垫组件经定位与配置，使得至少在有充足压力施加于该第一腔室期间，该抛光垫部分突出穿过该孔隙。
用于化学机械抛光小型载体

[发明专利]用于化学机械研磨的方法、系统与研磨垫-CN201580030724.3有效
发明人： H·C·陈;P·D·巴特菲尔德;J·古鲁萨米;J·G·方;S-S·常;J·张;E·刘 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-07-10 - 公布日： 2020-10-16 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：化学机械研磨可用于“修整研磨”，其中在基板的前表面的受限区域上执行研磨。研磨垫与基板之间的接触区域可基本上比基板的半径表面小。在研磨期间，研磨垫可经历轨道运动。在轨道运动期间，可将研磨垫维持在固定的角定向上。接触区域可以是弧形。可通过从研磨垫的上部向下凸出的一个或更多个下部提供接触区域。可将研磨垫的周边部分垂直地固定至环形构件并且周边部分内的研磨垫的剩余部分可自由垂直。
用于化学机械研磨方法系统

[发明专利]修改基板厚度轮廓-CN201580032583.9有效
发明人： J·古鲁萨米;H·C·陈 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-07-10 - 公布日： 2020-03-17 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：一种研磨系统，该研磨系统包括支座以固持具有将被研磨的基板表面的基板、保持研磨垫与该基板表面接触的载体，及压力施加器，以在研磨垫的背面的选定区域施加压力。该背面与该研磨表面相对。该压力施加器包括致动器及主体，该主体经配置以由该致动器移动来接触及不接触该研磨垫的背面的选定区域。
修改厚度轮廓

[发明专利]监控扣环厚度及压力控制-CN201380037623.X有效
发明人： S·德什潘德;Z·王;S·C-C·徐;G·S·丹达瓦特;H·C·陈;W-C·屠 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2013-07-03 - 公布日： 2018-02-13 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：一种化学机械研磨装置包含承载头、原处监控系统与控制器，该承载头包含扣环，该扣环具有塑胶部分，该塑胶部分具备与研磨垫接触的底部表面，该原处监控系统包含传感器，该传感器根据该塑胶部分的厚度产生信号，该控制器经配置以从该原处监控系统接收该信号，并响应于该信号调整至少一研磨参数，以补偿因为该扣环塑胶部分厚度的改变所形成的非均匀性。
监控扣环厚度压力控制

[发明专利]压力控制的抛光压板-CN201180010227.9有效
发明人： H·C·陈 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2011-12-12 - 公布日： 2017-02-15 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明描述一种用于在抛光工艺中控制施加于基板的压力和力的方法和设备。在一个实施方式中，描述一种拋光系统。系统包括可旋转地布置在基座上的压板和垫压力施加器，所述压板具有侧壁和布置在所述压板上的抛光垫以形成内部体积，所述垫压力施加器布置在压板的内部体积中邻近所述抛光垫的下侧。
压力控制抛光压板

[发明专利]利用扣环的基板边缘调节-CN201180044017.1有效
发明人： H·C·陈;S·C-C·徐;Y·袁;H·张;G·S·丹达瓦特;M·D·塞法堤 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2011-08-05 - 公布日： 2016-11-02 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：一种用于化学机械抛光机的载具头包括底座、基板安装表面、环形内环和环形外环。内环具有配置为圆周地环绕定位于基板安装表面上的基板的边缘的内表面、外表面和接触抛光垫的下表面。内环相对于基板安装表面而可垂直移动。外环具有圆周地环绕内环的内表面、外表面和接触抛光垫的下表面。外环相对于且独立于基板安装表面和内环而可垂直移动。内环的下表面具有第一宽度，且外环的下表面具有大于第一宽度的第二宽度。
利用扣环边缘调节

[发明专利]用于化学机械研磨垫的调节的方法及设备-CN201380073189.0在审
发明人： R·巴贾杰;H·C·陈 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2013-10-18 - 公布日： 2015-11-18 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本文提供了一种用于调节研磨垫的方法与设备。在一实施例中，提供了一种用于基板研磨处理的垫片调节装置。该垫片调节装置包括光学装置，该光学装置耦接至研磨站中邻近于研磨垫的一部分，该光学装置包括激光发射器，用以对研磨垫的研磨表面发出光束，该光束具有与研磨处理中所使用的研磨流体实质上不反应、但与研磨垫反应的波长范围。
用于化学机械研磨调节方法设备

[发明专利]使用改良型摩擦测量的基板抛光端点检测的系统与方法-CN201280059528.5有效
发明人： S-S·张;H·C·陈;L·卡鲁比亚;P·D·巴特菲尔德;E·S·鲁杜姆 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2012-11-14 - 公布日： 2014-08-06 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供抛光基板的方法、装置及系统。本发明包括上部平台；耦接至上部平台的扭矩/应变测量仪；以及耦接至扭矩/应变测量仪并适于经由扭矩/应变测量仪驱动上部平台旋转的下部平台。在其他实施例中，本发明包括上部托架、耦接至上部托架的侧向力测量仪及耦接至侧向力测量仪并适于支撑抛光头的下部托架。本发明揭示多个额外方面。
使用改良摩擦测量抛光端点检测系统方法

[发明专利]用于使用改良的摩擦测量来进行基板抛光检测的系统和方法-CN201280059506.9有效
发明人： S-S·张;H·C·陈;L·卡鲁比亚;P·D·巴特菲尔德;E·S·鲁杜姆 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2012-11-14 - 公布日： 2014-07-30 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明揭示抛光基板的方法、装置及系统。该装置包括上部平台；扭矩/应变测量仪，该扭矩/应变测量仪耦接至上部平台；以及下部平台，该下部平台耦接至扭矩/应变测量仪并适于经由扭矩/应变测量仪驱动上部平台旋转。在其他实施例中，该装置包括第一托架；耦接至第一托架的侧向力或位移测量仪；及耦接至侧向力或位移测量仪的第二托架，且其中第一托架与第二托架中之一适于支撑抛光头。本发明揭示多个额外方面。
用于使用改良摩擦测量进行抛光检测系统方法

[发明专利]内扣环和外扣环-CN201310170453.4有效
发明人： H·C·陈;S·C-C·徐;Y·袁;H·张;G·S·丹达瓦特;M·D·塞法堤 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2011-08-05 - 公布日： 2013-08-21 - 主分类号： B24B37/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种内扣环和外扣环。一种用于化学机械抛光机的载具头包括底座、基板安装表面、环形内环和环形外环。内环具有配置为圆周地环绕定位于基板安装表面上的基板的边缘的内表面、外表面和接触抛光垫的下表面。内环相对于基板安装表面而可垂直移动。外环具有圆周地环绕内环的内表面、外表面和接触抛光垫的下表面。外环相对于且独立于基板安装表面和内环而可垂直移动。内环的下表面具有第一宽度，且外环的下表面具有大于第一宽度的第二宽度。
扣环

[发明专利]用以于化学机械研磨期间减少基材边缘应力的基板固持件-CN201180007371.7无效
发明人： H·C·陈;S·C-C·徐;G·沙萨克;D·M·库萨 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2011-06-16 - 公布日： 2012-10-10 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明的实施例一般关于化学机械研磨基材的方法。该方法一般包含：将待研磨的第一基材耦接至伪基材；及移除第一基材背侧的部分以减少第一基材的厚度。第一基材及伪基材系置于承载头组件中，该承载头组件包括可膨胀膜及支撑环。第一基材系放置与研磨垫接触，以减少第一基材背侧的表面粗糙度。支撑环限制可膨胀膜的侧向移动，以防止第一基材接触承载头组件的内侧表面。支撑环经调整尺寸以允许可膨胀膜于承载头组件内的垂直移动。
用以化学机械研磨期间减少基材边缘应力基板固持件

[发明专利]在研磨期间用于温度控制的设备及方法-CN201180007435.3无效
发明人： H·C·陈;S·C-C·徐;G·S·丹达瓦特;D·M·库萨 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2011-06-16 - 公布日： 2012-10-10 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明的实施例涉及用于改善研磨制程的均匀性的设备与方法。本发明的实施例提供加热机构或冷却机构或偏压加热机构，加热机构设以在研磨期间施加热能到基材的周围，冷却机构设以在研磨期间冷却基材的中心区域，偏压加热机构设以在研磨垫的给定半径上产生温度阶梯差异。
研磨期间用于温度控制设备方法

[发明专利]边缘基座的侧垫设计-CN201180007369.X无效
发明人： Y·袁;H·C·陈;张寿松 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2011-02-09 - 公布日： 2012-10-10 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明描述了一种方法及设备，用于促进研磨垫的研磨表面的均衡调节。此设备包括延伸装置，此延伸装置耦接至邻近研磨垫的外周边缘的基部，且所述研磨垫调适成支撑调节装置；此延伸装置包括主体，此主体可相对于所述研磨垫移动，及耗蚀性衬垫，此耗蚀性衬垫包含耦接至上述主体的安装表面的研磨材料。
边缘基座设计

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