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[发明专利]反射镜、光学系统及操作光学系统的方法-CN202180084466.2在审
发明人： H·恩基施;T·格鲁纳;B·盖尔里希 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2021-11-22 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： G02B26/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于操作光学系统的方法、以及一种反射镜与一种光学系统，尤其用于微光刻投射曝光装置。反射镜(尤其用于微光刻投射曝光装置，其中反射镜具有光学有效表面)包含反射镜基板(101、201、301、401、501)和多个配置在反射镜基板中的空腔(110、210、310、410、411、510)，并且其中每个空腔都可被施加流体，其中可通过改变这些空腔(110、210、310、410、411、510)中的流体压力将变形传递到光学有效表面。
反射光学系统操作方法

[发明专利]用晶体材料制造透镜-CN02828920.X无效
发明人： B·恩基施;H·恩基施;T·格鲁纳 -专利权人：卡尔蔡司SMT股份公司
申请日： 2002-11-13 - 公布日： 2005-06-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及用一种晶体材料制造光学坯件(1)的方法，该坯件作为制造透镜或透镜部件用于物镜，特别是用于微光刻技术投影曝光设备的投影物镜的预备阶段。在本方法中首先确定定义在晶体结构内取向的第一晶向(3)的方位。然后这样加工光学坯件(1)，使第一晶向(3)基本上垂直于光学坯件(1)的光学坯件表面(7)。然后将标记涂在光学坯件(1)或光学坯件(1)的支撑件上，该标记与第二晶向(11)有一个定义的关系，即第二晶向与第一晶向(3)有一个不等于零的角度。
晶体材料制造透镜