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[发明专利]扩展和塌缩设备及其使用方法-CN201780077483.7在审
发明人： G.布朗;R.麦高恩 -专利权人：匹克维尔系统私人有限公司;匹克维尔系统有限公司
申请日： 2017-11-09 - 公布日： 2019-10-01 - 主分类号： E21B33/12 文献下载
摘要：本发明提供了扩展和塌缩设备及其使用方法。设备包括组装在一起以形成围绕纵向轴线的环结构(54)的多个元件(52)。环结构可操作以通过移动所述多个元件从而在扩展状态和塌缩状态之间移动。每个具有第一端部和第二端部的至少一组结构元件(56)可操作以通过沿着轴向方向移动第一端部并且通过沿着径向尺寸移动第二端部从而在扩展状态和塌缩状态之间移动。至少一组元件可操作以通过沿着与环结构同心的圆相切的方向相对于彼此滑动而移动。在另一方面，所述多个元件(82)包括在设备上纵向延伸并且可操作以相对于彼此滑动的至少一组结构元件(86)，其中在垂直于纵向轴线的选定平面中的滑动移动与位于选定平面中并且与纵向轴线同心的圆相切。本发明的应用包括油田装置，包括抗挤压环、插塞、封隔器、锁、修补工具、连接系统和下入井眼中的可变直径工具。
可操作塌缩纵向轴线环结构移动第二端部第一端部扩展状态滑动同心的组结构相切轴向方向移动方向相对滑动移动连接系统修补工具油田装置封隔器抗挤压可变插塞井眼组装垂直应用

[发明专利]细胞制备物和细胞支持物及其在治疗性诊断中的用途-CN201480013265.3在审
发明人： I.索科罗瓦;J.舒尔斯;O.科恩菲尔德;J.潘拉;M.宋;S.西泰罗;F.波利奇特;G.布朗;E.佩斯托瓦 -专利权人：雅培分子公司
申请日： 2014-03-13 - 公布日： 2015-12-30 - 主分类号： C12Q1/68 文献下载
摘要：从包含组织或细胞团块的患者样本制备细胞的方法；原位杂交（ISH）或免疫组织化学（IHC）的方法；治疗性诊断患者对靶向酪氨酸激酶途径的活性剂响应的方法；包括ISH或IHC方法的治疗性诊断方法的改进；细胞支持物，在其表面上是细胞，所述细胞已用ISH或IHC方法与可检测标记的探针接触；和试剂盒，所述试剂盒包含（a）细胞支持物和/或至少一种用于ISH或IHC的探针，和（b）用于在细胞支持物上进行ISH或IHC方法的说明书。
细胞制备支持及其治疗诊断中的用途

[发明专利]涡轮机叶轮涂装方法和设备-CN201210417739.3有效
发明人： T.J.普法芬罗思;G.奥西克;G.布朗;N.巴特 -专利权人：通用电气公司
申请日： 2012-10-26 - 公布日： 2013-05-08 - 主分类号： B05D1/32 文献下载
摘要：本发明公开一种涡轮机叶轮涂装方法和设备。在为涡轮机叶轮安装仪器进行部件和开发测试之前，所述涡轮机叶轮将涂装上保护涂层，以使传感器可焊接到所述涂层，而不是焊接到所述涡轮机叶轮的基材上。但重要的是要防止将涂料涂装到对所述涡轮机叶轮的使用寿命非常关键的鸠尾槽上。所述塞可在涂装所述涂层之前插到所述鸠尾槽中。每个塞经成形匹配所述鸠尾槽的形状轮廓。所述塞可防止关键区域被涂，不需要后处理，并且允许涂装单一涂层。
涡轮机叶轮方法设备

[发明专利]使用云服务目录来供应服务-CN201080054735.2有效
发明人： G.布朗;C.J.道森;B.科菲;R.A.汉密尔顿二世;M.维斯瓦纳萨恩 -专利权人：国际商业机器公司
申请日： 2010-11-03 - 公布日： 2012-10-31 - 主分类号： G06F9/50 文献下载
摘要：本发明提供通过使用云计算环境中的云服务总线来创建云服务目录来供应云服务的系统和方法。在一个实施例中，存在云服务目录管理器，其被配置以连接云计算环境中的多个云；维护来自多个连接的云的集成的云服务的目录；并在用户界面上显示集成的服务的索引。使用该系统和方法将允许跨越不相关、在物理上不同的云的、由不同合伙人提供的多个分离服务被呈现作为集成的服务的索引。
使用服务目录供应

[发明专利]用于EUV波长范围的反射镜，用于该反射镜的基底，包括该反射镜或该基底的用于微光刻的投射物镜，及包括该投射物镜的用于微光刻的投射曝光设备-CN201080056967.1有效
发明人： S.马伦德;J.韦伯;W.克劳斯;H-J.保罗;G.布朗;S.米古拉;A.多多克;C.扎克泽克;G.范布兰肯哈根;R.勒歇尔 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2010-11-08 - 公布日： 2012-10-03 - 主分类号： G02B5/08 文献下载
摘要：本发明涉及用于EUV波长范围的反射镜（la；la'；lb；lb'；lc；lc'），该反射镜包含基底（S）和层布置，其中该层布置包括至少一个表面层系统（P'''），该表面层系统（P'''）由单独层的至少两个周期（P3）的周期性序列构成，其中周期（P3）包括两个由不同的材料构成的单独层，该不同的材料用于高折射率层（H'''）和低折射率层（L'''）；其中该层布置包括至少一个基底表面保护层（SPL，Lp）或至少一个表面保护层系统（SPLS），其在基底和单独层的至少两个周期的周期性序列之间，具有大于20nm，特别是50nm的厚度。
用于 euv 波长范围反射基底包括微光投射物镜曝光设备

[发明专利]用于EUV波长范围的反射镜、包括这种反射镜的用于微光刻的投射物镜、以及包括这种投射物镜的用于微光刻的投射曝光设备-CN201080030955.1有效
发明人： H-J.保罗;G.布朗;S.米古拉;A.多多克;C.扎克泽克 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2010-06-01 - 公布日： 2012-05-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于EUV波长范围的反射镜(1a；1b；1c)，所述反射镜包括基底(S)和层布置，其中所述层布置包括多个层子系统(P”、P”’)，每个层子系统由单独层的至少两个周期(P2、P3)的周期序列构成，其中所述周期(P2、P3)包括作为高折射率层(H”、H”’)和低折射率层(L”、L”’)的两个单独层，高折射率层(H”、H”’)和低折射率层(L”、L”’)由不同材料构成，并且在每个层子系统(P”、P”’)内具有恒定厚度(d2、d3)，所述恒定厚度(d2、d3)与相邻层子系统的周期的厚度偏离。所述反射镜的特征在于第二远离所述基底(S)的层子系统(P”)具有周期(P2)的序列，使得最远离基底(S)的层子系统(P”’)的第一个高折射率层(H”’)直接接续第二远离所述基底的层子系统(P”)的最后一个高折射率层(H”)，并且/或者，最远离所述基底(S)的层子系统(P”’)的周期(P3)的数目(N3)大于第二远离所述基底(S)的层子系统(P”)的周期(P2)的数目(N2)。本发明还涉及包括这种反射镜(1a；1b；1c)的用于微光刻的投射物镜，并且还涉及包括这种投射物镜的投射曝光设备。
用于 euv 波长范围反射包括这种微光投射物镜以及曝光设备

[发明专利]用于EUV 波长范围的反射镜、包括这种反射镜的用于微光刻的投射物镜、以及包括这种投射物镜的用于微光刻的透射曝光设备-CN201080016694.8有效
发明人： H-J.保罗;G.布朗;S.米古拉;A.多多克;C.扎克泽克 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2010-03-19 - 公布日： 2012-03-28 - 主分类号： G02B5/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于EUV波长范围的反射镜，所述反射镜包括施加在基底上的层布置，其中所述层布置包括多个层子系统(P”、P’”)，每个层子系统由多个单独层的至少一个周期(P2、P3)的周期序列构成，其中所述周期(P2、P3)包括由不同材料构成的两个单独层，用于高折射率层(H”、H’”)和低折射率层(L”、L’”)，并且在每个层子系统(P”、P’”)内具有恒定厚度(d2、d3)，所述恒定厚度(d2、d3)与相邻层子系统的周期的厚度偏离。所述反射镜的特征在于最远离所述基底的层子系统(P’”)的周期(P3)的数目(N3)大于第二远离所述基底的层子系统(P”)的周期(P2)的数目(N2)，并且/或者，最远离所述基底的层子系统(P”’)的高折射率层(H’”)的厚度与第二远离所述基底的层子系统(P”)的高折射率层(H”)的厚度偏离超过0.1nm。本发明还涉及包括这种反射镜的用于微光刻的投射物镜，并且还涉及包括这种投射物镜的投射曝光设备。
用于 euv 波长范围反射包括这种微光投射物镜以及透射曝光设备

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