专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基于示踪剂的多级水力压裂后的生产测井的方法-CN201811070837.8有效
  • G·安德鲁 - 吉奥斯普里特有限责任公司
  • 2018-09-14 - 2023-08-18 - E21B47/11
  • 本申请公开了基于示踪剂的多级水力压裂后的生产测井方法,所述方法基于以聚合物微球形式生产荧光标记物,所述荧光标记物由树脂分散体和发光物质制备,将所获得的标记物与载体介质混合并放置在储层岩石内产生的裂缝中,在地面取样含有标记物的生产的流体,使用荧光测定法分析样品以确定标记物的代码/信号特征及其浓度,基于分别针对油和水的分析结果确定每个井层/压裂段对总井产量的贡献,其特征在于,使用发光物质进行所述标记物的制备,所述发光物质通过聚合制备,通过流式细胞荧光测定法确定井液样品中标记物的代码和浓度,基于这些计算的结果,计算相应压裂层段的流入量。本发明方法提高在地层的多级水力压裂中确定井下流体流入量的结果的可靠性。
  • 基于示踪剂多级水力压裂后生产测井方法
  • [发明专利]由头孢烷衍生物制备青霉烷衍生物的方法-CN02829500.5无效
  • P·B·德斯潘德;U·P·森西尔库马;G·安德鲁 - 奥齐德化学和制药有限公司
  • 2002-06-12 - 2005-08-03 - C07D499/06
  • 本发明提供一种制备通式(I)所示2β-杂环基甲基青霉烷衍生物的新方法:(I)式中,R1表示氢、羧酸保护基如酯或药物可接受的盐;R2和R3可以相同或不同,分别表示氢、卤素、NH2、酰氨基、邻苯二酰亚氨基,其前提是R2和R3不是都为NH2、酰氨基、邻苯二酰亚氨基;Het表示包含NH的5或6元杂环系统,它包含一个或多个选自O、S或N的杂原子,所述方法包括:(i)在溶剂和碱存在下,在-10到110℃下使通式(VII)所示化合物(L表示离去基)和通式(VIII)所示化合物(其中Het如上所述)反应,制得通式(IX)所示的化合物;(ii)使用常规氧化剂,在可水混溶的溶剂和有机酸存在下氧化通式(IX)所示的化合物,制得通式(I)所示的化合物;并且若需要的话,(iii)在碱和水不混溶的溶剂存在下,使用金属催化剂将其中R1为羧基保护剂的通式(I)所示化合物脱酯成其中R1是氢的通式(I)所示化合物。
  • 头孢衍生物制备青霉方法

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