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[发明专利]束传输设备和方法-CN201480063035.8有效
发明人： V·班尼恩;P·巴特瑞;R·范格尔库姆;L·阿门特;彼得·德亚格尔;G·德维里斯;R·栋克尔;W·恩格尔伦;O·弗里基恩斯;L·格瑞米克;A·卡塔伦尼克;E·鲁普斯特拉;H-K·尼恩惠斯;A·尼基帕罗夫;M·瑞肯斯;F·詹森;B·克鲁兹卡 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2014-09-24 - 公布日： 2019-02-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种在光刻系统内使用的传输系统。所述束传输系统包括光学元件，所述光学元件被布置成接收来自辐射源的辐射束并且沿着一个或多个方向反射辐射的部分以形成用于供给到一个或多个工具的一个或多个分支辐射束。
传输设备方法

[发明专利]光刻设备和方法-CN201080026588.8有效
发明人： J·范斯库特;G·德维里斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2010-06-07 - 公布日： 2012-11-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供一种照射系统，其具有多个反射元件，所述反射元件在引导辐射朝向光瞳平面内的不同位置的不同取向之间是可移动的，由此形成不同的照射模式。每个反射元件能够移动至将辐射引导至内部照射部位组中的一内部照射部位的第一取向、引导辐射至中间照射部位组中的一中间照射部位的第二取向以及引导辐射至外部照射部位组中的一外部照射部位的第三取向。反射元件配置成被取向成使得它们可以引导相等量的辐射朝向内部、中间以及外部照射部位组，并且配置成被取向成使得它们基本上不引导辐射至外部照射部位组并且引导基本上相等量的辐射朝向内部和中间照射部位组。
光刻设备方法

[发明专利]光刻设备以及器件制造方法-CN201080057980.9有效
发明人： K·范隐真申诺;J·范斯库特;G·德维里斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2010-11-19 - 公布日： 2012-09-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：在光刻设备中，使用包括多个可移动琢面以将辐射引导至光瞳琢面反射镜上的可选择位置的场反射镜设置照射模式。从一组预定照射模式选择基础照射模式并且可移动琢面被设置以实现该模式。为了调节成像参数，可移动琢面的一部分被设置到不同位置。确定哪些琢面设置到不同位置基于对将每个琢面设置到不同位置的效应的累加。
光刻设备以及器件制造方法

[发明专利]照射系统、光刻设备以及照射方法-CN201080059496.X无效
发明人： W·德勃伊;E·鲁普斯特拉;尤韦·米莰;J·范斯库特;G·德维里斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2010-11-29 - 公布日： 2012-09-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种照射系统，包括配置成调节入射到场多小面反射镜装置上的辐射束的光瞳反射镜和场多小面反射镜装置。场多小面反射镜装置包括多个反射型场小面，其能够在相对于入射束的第一取向和第二取向之间移动。在其第一取向的场小面有效地将入射辐射反射朝向相应的反射光瞳小面，以便形成从光瞳多小面反射镜装置反射的调节束的部分。在其第二取向的场小面有效地将入射辐射反射到光瞳多小面反射镜装置的设置为束流收集区域的相应区域。该区域布置用以阻止入射到该区域的辐射形成调节束的部分，并布置在光瞳多小面反射镜装置上的有效地限定从光瞳多小面反射镜装置反射的调节束的内部和外部区域的环形区域的界限之间。
照射系统光刻设备以及方法

[发明专利]光刻设备以及器件制造方法-CN201080051846.8有效
发明人： J·范斯库特;克恩·万英根谢诺;G·德维里斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2010-09-08 - 公布日： 2012-07-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：在光刻设备中，使用场反射镜设置照射模式，场反射镜包括多个可移动琢面以引导辐射至光瞳琢面反射镜上的可选定位置。在一场琢面反射镜有缺陷且不能被设置到期望位置的情形中，可移动琢面反射镜中的另一个被设置到与其期望位置不同的校正位置，以便至少部分地缓解有缺陷的琢面反射镜的有害影响。
光刻设备以及器件制造方法

[发明专利]光学设备和定向反射元件的方法-CN201080037143.X有效
发明人：埃德温·比伊斯;G·德维里斯;F·布恩 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2010-04-09 - 公布日： 2012-05-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光学设备，具有可移动反射元件(110)和相关的致动器(109)。所述致动器包括第一磁体(113)和第二磁体(114)，所述第一磁体连接至所述可移动反射元件使得所述第一磁体的移动将导致所述可移动反射元件移动，所述第二磁体连接至马达(116)使得所述马达的操作将导致所述第二磁体移动，其中所述第二磁体被相对于所述第一磁体定位，使得移动所述第二磁体将导致所述第一磁体移动。
光学设备定向反射元件方法

[发明专利]照射系统、光刻设备和调节照射模式的方法-CN201080037493.6有效
发明人： G·德维里斯;埃德温·比伊斯;M·范达姆;J·范斯库特;F·布恩;H·科瑞沃 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2010-03-18 - 公布日： 2012-05-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了一种照射系统，该照射系统具有可以配置成形成照射模式的多个可移动反射元件(22a、22b、22c)和相关的致动器。所述致动器中的一个或更多个布置成在第一位置、第二位置和第三位置之间移动，并因此在第一方向、第二方向和第三方向之间移动相关的可移动反射元件(22a、22b、22c)，所述第一方向和第二方向使得从所述可移动反射元件(22a、22b、22c)反射的辐射形成所述照射模式的一部分，所述第三方向使得从所述可移动反射元件反射的辐射不形成照射模式的一部分。
照射系统光刻设备调节模式方法