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[发明专利]通过等离子体进行气体消减-CN202180088839.3在审
发明人： S·马格尼;N·康登;E·瓦格纳尔斯 -专利权人：爱德华兹有限公司
申请日： 2021-11-01 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： H05H1/26 文献下载
摘要：本发明公开了用于处理来自半导体加工工具的排出物流的设备和方法。等离子体消减设备用于处理来自半导体加工工具的排出物流，等离子体消减设备包括：等离子体装置，其配置成由等离子体气体产生等离子体物流；排出物流孔口，其配置成将所述排出物流输送到所述等离子体物流中以通过所述等离子体物流处理；第一孔口，其定位成将还原反应物递送到所述等离子体物流的第一区域；以及第二孔口，其定位成将氧化反应物递送到所述等离子体物流的第二区域，其中第二区域位于等离子体物流的相比于第一区域温度较低的位置处。以这种方式，将还原试剂引入到等离子体物流的较高温度区域中，将氧化试剂引入到等离子体物流的较低温度区域中。这使得还原反应更有效，因为还原反应物存在于较高温度区域，并且在该较高温度区域中不存在氧化反应物减少了不期望的热生成的氧化物的存在。类似地，氧化反应物的引入有助于去除由还原反应产生的副产物，并且因为将氧化反应物引入到等离子体物流的较低温度区域，所以减少了不期望的热生成的氧化物的量。
通过等离子体进行气体消减

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