专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]X射线探测器、成像装置和校准方法-CN201580008130.2有效
  • E·勒斯尔;H·德尔 - 皇家飞利浦有限公司
  • 2015-12-09 - 2019-09-03 - G01T1/24
  • 本发明涉及一种X射线探测器,所述X射线探测器包括直接转换半导体层(60),所述直接转换半导体层具有多个像素,所述多个像素用于将入射辐射转换成具有所述半导体层的带隙能量特性的电测量信号,其中,所述入射辐射为由X射线源(2)发射的X射线辐射或者由至少一个光源(30、33)发射的光。另外,评估单元(67)被提供用于根据当来自所述至少一个光源的具有第一强度的光被耦合到所述半导体层中时每像素或每像素组所生成的第一电测量信号以及当来自所述至少一个光源的具有第二强度的光被耦合到所述半导体层中时每像素或每像素组所生成的第二电测量信号来计算每像素或每像素组的评估信号,其中,所述评估单元被配置为检测所述第一电测量信号和所述第二电测量信号中每像素或每像素组的噪声峰值,并且被配置为根据检测到的噪声峰值来确定每像素或每像素组的偏置和增益。探测单元(69)被提供用于根据当X射线辐射入射到所述半导体层上时所生成的电测量信号来确定探测信号,并且校准单元(68)被提供用于基于所述评估信号来校准所述探测单元。
  • 射线探测器成像装置校准方法
  • [发明专利]狭缝扫描相位衬度成像中的校正-CN201480036955.0有效
  • E·勒斯尔;G·马滕斯 - 皇家飞利浦有限公司
  • 2014-06-27 - 2019-03-08 - A61B6/00
  • 本发明涉及X射线相位衬度成像中的校准。为了移除由于个别增益因子引起的干扰,提供一种用于狭缝扫描X射线相位衬度成像装置的校准滤波器光栅(10),其包括:第一多个滤波器段(11),所述第一多个滤波器段包括滤波器材料(12);以及,第二多个开口段(13)。所述滤波器段和所述开口段被交替布置为滤波器样式(15)。所述滤波器材料由具有结构元件(14)的材料制成,所述结构元件(14)包括微米范围的结构参数。所述滤波器光栅被可移动地布置在相位衬度成像装置的狭缝扫描系统中的干涉仪单元的X射线源光栅(54)与分析器光栅(60)之间。所述狭缝扫描系统被提供具有预准直器(55),所述预准直器包括多个条棒(57)和狭缝(59)。所述滤波器样式与预准直器样式(61)对齐。
  • 狭缝扫描相位成像中的校正
  • [发明专利]成像装置和方法-CN201580002726.1有效
  • T·克勒;R·普罗克绍;B·J·布伦德尔;E·勒斯尔 - 皇家飞利浦有限公司
  • 2015-09-22 - 2019-01-29 - A61B6/03
  • 本发明涉及一种成像装置和对应的成像方法。为了避免探测单元中的堆积效应的缺点,提出了一种成像装置,其包括:辐射源(2),其用于将辐射从聚焦区(20)发射通过成像区域(5);探测单元(6),其用于探测来自所述成像区域(5)的辐射,所述探测单元包括防散射光栅(62)和探测器(61);机架(1),所述辐射源(2)和所述探测单元(6)被安装到所述机架,并且所述机架允许所述辐射源(2)和所述探测单元(6)围绕所述成像区域旋转;以及控制器(9),其用于控制所述探测单元(6)以在围绕所述成像区域旋转期间在多个投影位置处探测辐射,并且用于操纵所述辐射源(2)和/或所述探测单元(6)的至少部分在第一投影位置(80)处的位置、设定和/或取向,使得与表示剩余投影位置的第二投影位置(80)相比,在所述第一投影位置处入射在所述探测器(61)上的辐射在更大程度上被所述防散射光栅(62)衰减。
  • 成像装置方法
  • [发明专利]用于X射线成像设备的光栅设备-CN201580041982.1有效
  • E·勒斯尔;T·克勒;H-A·维施曼 - 皇家飞利浦有限公司
  • 2015-07-20 - 2018-11-27 - G21K1/02
  • 本发明涉及用于X射线成像设备的光栅设备(1)、干涉仪单元(2)、X射线成像系统、X射线成像方法以及用于控制这样的设备的计算机程序单元和存储有这样的计算机程序单元的计算机可读介质。用于X射线成像设备的光栅设备(1)包括光栅布置(10)和致动布置。光栅布置(10)包括多个光栅分段(11)。所述致动布置被配置为在第一位置与第二位置之间利用至少旋转部件来移动所述多个光栅分段(11)。在所述第一位置中,所述光栅分段(11)被布置在X射线射束(30)的路径中,使得所述光栅分段(11)影响所述X射线射束(30)的部分。在所述第二位置中,所述光栅分段(11)被布置在X射线射束(30)的所述路径的所述部分外部,使得所述X射线射束(30)的所述部分不受所述光栅分段(11)影响。
  • 用于射线成像设备光栅
  • [发明专利]用于倾斜角度X射线辐射的X射线探测器设备-CN201580047375.6有效
  • E·勒斯尔;T·克勒 - 皇家飞利浦有限公司
  • 2015-12-01 - 2018-11-13 - G01T1/24
  • 本发明涉及用于以相对于X射线辐射的倾斜角度来探测所述X射线辐射的X射线探测器设备(10)、X射线成像系统(1)、X射线成像方法、和用于控制这样的设备或系统以执行这样的方法的计算机程序单元、以及存储有这样的计算机程序单元的计算机可读介质。所述X射线探测器设备(10)包括阴极表面(11)和阳极表面(12)。所述阴极表面(11)和所述阳极表面(12)被分离层(13)分开,以允许响应于在所述阴极表面(11)上操作期间入射的X射线辐射的、在所述阴极表面(11)与所述阳极表面之间(12)的电荷传输(T)。所述阳极表面(12)被分割为阳极像素(121)并且所述阴极表面(11)被分割为阴极像素(111)。所述阴极像素(111)中的至少一个在相对于所述阴极表面(11)倾斜的耦合方向(C)上被分配到所述阳极像素(121)中的至少一个。所述阴极像素(111)中的至少一个被配置为相对于邻近阴极像素处于电压偏置,并且所述阳极像素(121)中的至少一个被配置为相对于邻近阳极像素(121)处于电压偏置。所述电压偏置被配置为使电荷传输(T)汇聚于平行于所述耦合方向(C)的方向上。
  • 用于倾斜角度射线辐射探测器设备

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