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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]沉积有机材料的方法-CN200880108812.0有效
发明人： D·C·弗里曼;D·H·莱维;P·J·考德里-科尔文 -专利权人：伊斯曼柯达公司
申请日： 2008-09-17 - 公布日： 2011-04-20 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：一种通过原子层沉积在基板上制备有机薄膜的方法，所述方法包括同时引导一系列气流沿着基本上平行的伸长的通道通过，其中该系列气流包括依次的至少第一反应性气态材料、惰性吹扫气体和第二反应性气态材料，任选重复多次，其中所述第一反应性气态材料能够与用第二反应性气态材料处理过的基质反应，其中所述第一反应性气态材料、第二反应性气态材料或者二者为挥发性有机化合物。在有机薄膜的沉积过程中，所述方法基本上在大气压下或高于大气压下进行，其中沉积过程的基质温度低于250℃。
沉积有机材料方法

[发明专利]用于制造掺杂的氧化锌的方法-CN200880109145.8有效
发明人： P·J·考德里-科尔万;D·H·莱维;T·D·保利克;D·C·弗里曼 -专利权人：伊斯曼柯达公司
申请日： 2008-09-24 - 公布日： 2011-04-13 - 主分类号： H01L21/365 文献下载
摘要：本发明涉及一种制造用于晶体管中的锌氧化物基薄膜半导体的方法，包括在基材上薄膜沉积，包括提供多种气态材料，该气态材料包括第一，第二，和第三气态材料，其中第一气态材料是含锌挥发性材料和第二气态材料是对其具有反应性的，使得当第一或第二气态材料之一在基材的表面上，第一或第二气态材料的另一种将反应从而在基材上形成材料层，其中第三气态材料是惰性的和其中挥发性的含铟化合物被引入到第一反应性气态材料或附加的气态材料。
用于制造掺杂氧化锌方法

[发明专利]含硅氧烷的可光图案化沉积抑制剂-CN200880116804.0有效
发明人： L·M·欧文;D·H·莱维;D·C·弗里曼;C·杨;P·J·考德里-科万 -专利权人：伊斯曼柯达公司
申请日： 2008-11-10 - 公布日： 2010-10-20 - 主分类号： G03F7/075 文献下载
摘要：一种用于形成图案化薄膜的原子层沉积工艺，包括提供基材，向基材上施加可光图案化的沉积抑制剂材料，其中所述沉积抑制剂材料包括有机硅氧烷化合物；图案化所述沉积抑制剂材料。所述薄膜基本上只沉积在基材上不具有沉积抑制剂材料的选区内。
含硅氧烷图案沉积抑制剂

[发明专利]使用与选区沉积相结合的着色掩模的方法-CN200880116812.5无效
发明人： L·M·欧文;D·C·弗里曼;P·J·考德里-科万;C·杨;D·H·莱维 -专利权人：伊斯曼柯达公司
申请日： 2008-11-12 - 公布日： 2010-10-20 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种形成结构的方法，其包括a)提供透明载体；b)在透明载体的第一侧上形成彩色掩模；c)施加含有对可见光敏感的沉积抑制剂材料的第一层；d)通过用可见光透过彩色掩模对第一层曝光，将第一层图案化以形成第一图案，和将沉积抑制剂材料显影以提供实际上不具有沉积抑制剂材料的第一层的选区；和e)在透明载体上沉积功能材料第二层；其中功能材料第二层基本上只被沉积在透明载体上不具有沉积抑制剂材料的选区内。
使用选区沉积相结合着色方法

[发明专利]具有存在反应性气体空间分离的气体输送头和通过该输送头的基材运动的形成薄膜用的方法和沉积系统-CN200880108808.4无效
发明人： D·H·莱维;R·S·克尔;J·T·凯里 -专利权人：伊斯曼柯达公司
申请日： 2008-09-24 - 公布日： 2010-09-01 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：公开了在基材上沉积薄膜材料的方法，包括从薄膜沉积系统的输送头的输出面朝基材表面同时引导一系列气流，其中所述一系列气流包括至少第一反应性气态材料、惰性吹扫气体和第二反应性气态材料，其中第一反应性气态材料能与用第二反应性气态材料处理过的基材表面反应。还公开了能够进行这种方法的系统。
具有存在反应性气空间分离气体输送通过基材运动形成薄膜方法沉积系统

[发明专利]无机材料的选择区域沉积法-CN200880109120.8有效
发明人： C·杨;L·M·欧文;D·H·莱维;P·J·考德里-科尔万;D·C·弗里曼 -专利权人：伊斯曼柯达公司
申请日： 2008-09-16 - 公布日： 2010-08-18 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：用于形成图案化薄膜的原子层沉积方法包括：提供基材；在基材上施加沉积抑制剂材料，其中所述沉积抑制剂材料是有机化合物或聚合物；和在步骤(b)之后或者在施加沉积抑制剂材料的同时使沉积抑制剂材料形成图案，以提供实际上不含沉积抑制剂材料的基材选定区域。无机薄膜材料基本上只沉积在不含沉积抑制剂材料的基材的选定区域中。
无机材料选择区域沉积

[发明专利]由原子层沉积制造薄膜晶体管的方法-CN200880108960.2有效
发明人： S·F·奈尔逊;D·H·莱维;L·M·欧文;P·J·考德里-科尔万;D·C·弗里曼;C·R·埃林格尔 -专利权人：伊斯曼柯达公司
申请日： 2008-09-18 - 公布日： 2010-08-18 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明涉及一种制造例如薄膜晶体管、环境阻隔层、电容、绝缘器和总线的薄膜电子器件和设备的方法，其中大部分或所有层由大气压原子层沉积方法制造。
原子沉积制造薄膜晶体管方法

[发明专利]用于无机材料的选择区域沉积的有机硅氧烷材料-CN200880109095.3有效
发明人： C·杨;L·M·欧文;D·H·莱维;P·J·考德里-科尔万;D·C·弗里曼 -专利权人：伊斯曼柯达公司
申请日： 2008-09-17 - 公布日： 2010-08-18 - 主分类号： C23C16/04 文献下载
摘要：一种用于形成构图薄膜的原子层沉积方法，包括：(a)提供基板；(b)向基板涂布含有沉积抑制剂材料的组合物，其中该沉积抑制剂材料是有机硅氧烷聚合物；和(c)在步骤(b)后或在与涂布沉积抑制剂材料的同时对沉积抑制剂材料进行构图，从而有效地提供没有沉积抑制剂材料的选择区域。该无机薄膜基本上仅沉积在没有沉积抑制剂材料的基板的选择区域中。
用于无机材料选择区域沉积有机硅

[发明专利]用于沉积的输送装置-CN200880109091.5有效
发明人： R·S·克尔;D·H·莱维;J·T·默里 -专利权人：伊斯曼柯达公司
申请日： 2008-09-24 - 公布日： 2010-08-18 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：用于薄膜材料沉积的输送装置至少具有分别接收第一、第二和第三气态材料的公共供给源的第一、第二和第三进入口。该第一、第二和第三伸长输出通道中的每一个允许与相应的第一、第二和第三入口之一气体连通。该输送装置可以由孔板形成，所述孔板叠置而界定将供应室和导向通道互连的网络，以便将气态材料中的每一种从其相应的入口传递到相应的多个伸长输出通道。该输送装置包括由护面板之间的浮雕图案形成的扩散通道。还公开了薄膜沉积的方法。最后，一般地说，公开了流动扩散器和相应的流动扩散方法。
用于沉积输送装置

[发明专利]用于形成薄膜的沉积系统-CN200880109154.7有效
发明人： R·S·克尔;D·H·莱维 -专利权人：伊斯曼柯达公司
申请日： 2008-09-24 - 公布日： 2010-08-18 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：在ALD系统中维持至少两个涂布组件之间对准或位置关系的设备，该设备包括：在涂布部分中的多个涂布组件；用于支撑涂布组件的至少第一杆和第二杆；和用于支撑杆的至少第一杆装配结构和第二杆装配结构；其中各个涂布组件由第一杆和第二杆支撑，并且其中至少两个组件和第一杆和第二杆的结合确定涂布组件输出面的涂布部分型面。还公开制造该设备的方法。
用于形成薄膜沉积系统

[发明专利]使用具有空间分隔的反应性气体的气体输送头和移动基材经过输送头的用于形成薄膜的方法和沉积系统-CN200880109104.9无效
发明人： D·H·莱维;R·S·克尔;J·T·凯里 -专利权人：伊斯曼柯达公司
申请日： 2008-09-16 - 公布日： 2010-08-18 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：公开了一种在基材上沉积薄膜材料的方法，包括向基材表面同时引导来自薄膜沉积系统的输送头的输出面的一系列气流，其中一系列气流包括至少第一反应性气态材料、惰性吹扫气体和第二反应性气态材料，其中第一反应性气态材料能够与用第二反应性气态材料处理的基材表面反应，其中一个或多个该气流提供至少有助于将基材表面与输送头表面分离的压力。还公开了一种能够实施这种方法的系统。
使用具有空间分隔反应性气气体输送移动基材经过用于形成薄膜方法沉积系统

[发明专利]沉积系统及方法-CN200780049535.6有效
发明人： D·H·莱维 -专利权人：伊斯曼柯达公司
申请日： 2007-12-26 - 公布日： 2009-11-11 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明公开一种在基片上沉积薄膜物质的方法，所述方法包括从薄膜沉积系统的输送头的输出面朝向基片的表面同时引导一系列气流，其中所述系列的气流包括至少第一气态反应物质、惰性吹扫气体和第二气态反应物质，其中第一气态反应物质能够与用第二气态反应物质处理的基片表面反应，其中一个或多个气流提供至少有助于使基片表面从输送头的面分离的压力。本发明还公开一种能够实施此方法的系统。
沉积系统方法

[发明专利]含有用于照相的受保护的化合物的成像元件-CN01811093.2无效
发明人： W·K·斯卢萨雷克;杨希强;D·H·莱维 -专利权人：伊斯曼柯达公司
申请日： 2001-06-01 - 公布日： 2004-11-03 - 主分类号： G03C7/305 文献下载
摘要：通过Lossen重排可使其热分解的照相有用的受保护基团包括例如由以下结构表示的化合物：本申请定义了上述结构中的取代基。该化合物具有好的活性并且在预定的条件下热激活时可用于保护照相有用的化合物比如显影剂。根据本发明的化合物尤其适用于彩色光热照相影像元件。
含有用于照相保护化合物成像元件

[发明专利]包含酚热溶剂的彩色光热敏元件-CN01811023.1无效
发明人：杨希强;Z·R·奥夫查茨克;D·T·索斯比;M·E·欧文;P·B·梅克尔;L·M·欧文;D·H·莱维 -专利权人：伊斯曼柯达公司
申请日： 2001-05-24 - 公布日： 2004-01-14 - 主分类号： G03C1/498 文献下载
摘要：本发明涉及一种彩色光热敏元件，其包含至少三种感光单元，它们在不同的波长范围有其各自的感光性，每种单元包含至少一种感光性卤化银乳剂、粘合剂和染料提供成色剂、以及在由结构(I)表示的热溶剂存在下的阻塞显影剂，其中，所述基团是如说明书中所定义的，以促进光热敏元件的热显影。
包含溶剂彩色热敏元件

[发明专利]包含高消光、高染料得率青色成色剂的可扫描照相元件-CN02157034.5无效
发明人： J·B·穆贝里;W·K·斯卢萨雷克;D·T·索斯比;D·H·莱维;杨希强 -专利权人：伊斯曼柯达公司
申请日： 2002-12-19 - 公布日： 2003-07-02 - 主分类号： G03C7/30 文献下载
摘要：一种彩色照相元件，包含至少三个光敏单元，在不同波长区域内所述单元具有其独自的光敏性，其中至少一个单元包含光敏卤化银乳剂、粘合剂、和由结构式I表示的成色剂：COUP－(T)m－L－DYE′(I)式中COUP是能够与氧化的显影剂反应以形成第一青色染料的成色剂母基团，并且在偶联位置连接至形成相同色调第二染料的可释放基团上，如说明书中所述。
包含高消光染料青色成色扫描照相元件

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