“C·G·威尔森”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果15个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]用于10NM以下构图的嵌段共聚物-CN201780012875.5有效
发明人： C·G·威尔森;G·布拉胡特;M·马赫;Y·浅野;C·J·艾里森 -专利权人：得克萨斯大学体系董事会
申请日： 2017-02-22 - 公布日： 2021-10-29 - 主分类号： C08F299/02 文献下载
摘要：本发明涉及合成并利用可形成10nm以下薄层纳米结构的嵌段共聚物的方法。这种方法具有许多用途，其中包括在半导体工业中的多种应用，包括生产用于纳米压印平版印刷术的模板。
用于 10 nm 以下构图共聚物

[发明专利]用于薄膜嵌段共聚物的取向控制的酸酐共聚物的面涂层-CN201380011365.8有效
发明人： C·G·威尔森;C·J·艾里森;T·濑下;J·卡申;C·M·巴特斯;L·迪安;L·J·桑托斯;E·L·劳施 -专利权人：得克萨斯大学体系董事会
申请日： 2013-02-07 - 公布日： 2019-04-26 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明牵涉可旋涂在嵌段共聚物薄膜上的无规共聚物面涂层和用于控制面涂层‑嵌段共聚物界面的界面能的用途。该面涂层可溶于含水弱碱中，且通过它们沉积在嵌段共聚物薄膜上，则表面能可发生变化。使用自组装的嵌段共聚物生产高级平版印刷图案依赖于它们在薄膜内的取向控制。该面涂层潜在地使嵌段共聚物的取向控制容易实现，否则嵌段共聚物的取向控制会十分困难。
用于薄膜共聚物取向控制酸酐涂层

[发明专利]用于薄膜嵌段共聚物取向控制的酸酐共聚物面涂层-CN201410409101.4有效
发明人： C·G·威尔森;C·J·埃利森;T·濑下;J·卡申;C·M·贝茨;L·迪安;L·J·桑托斯;E·L·劳施;M·马厄 -专利权人：得克萨斯大学体系董事会
申请日： 2014-06-19 - 公布日： 2019-01-11 - 主分类号： C08J7/04 文献下载
摘要：使用自组装嵌段共聚物结构制备先进的平版印刷图案取决于控制这些结构在薄膜中的取向。特别地，垂直于嵌段共聚物膜平面的圆柱体和片状的取向在大多数应用中是需要的。实现取向的优选方法是通过加热。本发明包括使用极性转换(polarity‑switching)面涂层通过加热来控制嵌段共聚物薄膜取向。面涂层可以从极性铸膜溶剂旋涂在嵌段共聚物薄膜上，并且其在热退火时改变组成而变成“中性的”。面涂层能够有助于嵌段共聚物的取向控制，除此之外仅通过加热该取向控制是不可能的。
用于薄膜共聚物取向控制酸酐涂层

[发明专利]使用化学气相沉积膜控制嵌段共聚物薄膜中的域取向-CN201380013521.4有效
发明人： C·G·威尔森;W·J·杜兰德;C·J·埃利森;C·M·贝茨;濑下武宏;J·卡申;L·J·桑托斯;L·迪安;E·L·劳施 -专利权人：得克萨斯大学体系董事会
申请日： 2013-02-07 - 公布日： 2018-07-03 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明使用真空沉积的材料薄膜，形成与下面的嵌段共聚物薄膜的不同域无优先相互作用的界面。无优先界面防止形成湿润层并影响嵌段共聚物内的域取向。沉积的聚合物的目的是在嵌段共聚物薄膜内产生可充当平版印刷图案的纳米结构特征。
嵌段共聚物薄膜取向化学气相沉积纳米结构特征平版印刷图案嵌段共聚物材料薄膜真空沉积聚合物膜控制湿润层沉积

[发明专利]有序化嵌段共聚物-CN201580020461.8在审
发明人： C·G·威尔森;C·艾里森;M·马赫;C·贝茨;D·简斯 -专利权人：得克萨斯大学体系董事会
申请日： 2015-03-13 - 公布日： 2017-02-22 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：有序化嵌段共聚物的方法包括形成具有第一优先模式的第一层；和在第一层的选择区域内提供反应性试剂，所述反应性试剂改性选择区域成第二优先模式，其中该选择区域界定保留第一优先模式的第一层的其他区域，进而形成嵌段共聚物的校准层。
有序化嵌段共聚物

[发明专利]用于纳米平版印刷术的聚丙交酯/含硅嵌段共聚物-CN201380013688.0有效
发明人： C·J·艾里森;C·G·威尔森;J·卡申;C·M·巴特斯 -专利权人：得克萨斯大学体系董事会
申请日： 2013-02-07 - 公布日： 2014-12-31 - 主分类号： C08G63/695 文献下载
摘要：本发明包括以极低分子量自组装而形成极小特征的二嵌段共聚物体系。在一个实施方案中，在该嵌段共聚物内的一种聚合物含有硅，和另一聚合物是聚丙交酯。在一个实施方案中，通过阴离子和开环聚合反应的组合，合成该嵌段共聚物。在一个实施方案中，这一嵌段共聚物的目的是形成可在平版印刷构图中用作蚀刻掩模的纳米多孔材料。
用于纳米平版印刷术聚丙交酯含硅嵌段共聚物

[发明专利]用于平版印刷应用的低聚糖/含硅嵌段共聚物-CN201280036258.6无效
发明人： C·J·艾里森;J·卡申;I·大塚;C·G·威尔森;C·M·巴特斯;J·A·伊斯勒;R·波萨利;S·福特;S·哈利拉 -专利权人：得克萨斯大学体系董事会
申请日： 2012-06-21 - 公布日： 2014-07-23 - 主分类号： C08F293/00 文献下载
摘要：本发明公开了自组装产生非常小结构体的二嵌段共聚物体系。这些共聚物由含硅的一个嵌段和由通过叠氮-炔烃环加成反应偶联的低聚糖组成的另一嵌段组成。
用于平版印刷应用聚糖含硅嵌段共聚物

[发明专利]支化硅氧烷及其合成方法-CN201180009885.6有效
发明人： C·G·威尔森;T·欧嘉瓦;B·M·雅各布森 -专利权人：得克萨斯大学体系董事会
申请日： 2011-02-16 - 公布日： 2013-01-09 - 主分类号： C07F7/00 文献下载
摘要：本发明描述了支化和官能化的硅氧烷和制备这样的化合物的方法。所述化合物具有多种用途。一个优选的应用是作为用于光刻法的新型平坦化材料，在该情形中官能化支化硅氧烷，例如环氧改性的支化硅氧烷特别有用。
支化硅氧烷及其合成方法

[发明专利]含硅嵌段共聚合物及其合成和使用方法-CN201180020754.8无效
发明人： C·G·威尔森;C·贝茨;J·斯特拉恩;C·埃利森;B·米勒 -专利权人：得克萨斯大学体系董事会
申请日： 2011-03-17 - 公布日： 2013-01-09 - 主分类号： H01L51/40 文献下载
摘要：本发明描述含硅单体和共聚物的合成。单体三甲基-(2-亚甲基丁-3-烯基)硅烷（TMSI）的合成和随后具有苯乙烯二嵌段共聚物的合成，形成聚苯乙烯-嵌段-聚三甲基甲硅烷基异戊二烯，及合成二嵌段共聚物聚苯乙烯-嵌段-聚甲基丙烯酰氧基甲基三甲基硅烷或PS-b-P(MTMSMA)。这些含硅二嵌段共聚物具有多种用途。一种优选的应用为作为用于光刻法的具有低于100nm的特征的新型压印模板材料。
含硅嵌段共聚合物及其合成使用方法

[发明专利]用于排列嵌段共聚物的表面处理-CN201180020759.0有效
发明人： C·G·威尔森;C·贝茨;J·斯特拉恩;C·埃利森 -专利权人：得克萨斯大学体系董事会
申请日： 2011-03-17 - 公布日： 2013-01-02 - 主分类号： C08L53/00 文献下载
摘要：本发明涉及合成和使用无规交联的被取代的聚苯乙烯共聚物作为聚合交联的表面处理剂（PXST)来控制在第一共聚物上沉积的嵌段共聚物的物理特征的取向的方法。所述方法具有许多用途，包括制造用于纳米压印光刻法的模板的半导体工业中的多种应用。
用于排列共聚物表面处理

[发明专利]通过施加电场在光固化组合物中加工纳米级图形的方法和系统-CN02810019.0无效
发明人： C·G·威尔森;S·V·斯里尼维圣;R·T·博纳卡兹 -专利权人：德克萨斯州大学系统董事会
申请日： 2002-05-16 - 公布日： 2006-02-01 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：描述了一种高生产能力的光刻过程，通过使用仔细控制的电场再令可聚合组合物固化，在可聚合的组合物中产生高分辨率的图形。该过程采用包含有所要图形的模板。令该模板精密地近接基底上的可聚合组合物。在模板——基底的界面上施加外电场同时保持模板与基底之间存在均匀的仔细控制的间隙。这使得可聚合的组合物被吸引到模板的凸出部分。通过适当地选择过程参数，如可聚合组合物的粘度，电场的大小和模板与基底之间的距离，在该液体中形成的结构的分辨率可被控制成与模板结构的分辨率一致。
通过施加电场光固化组合加工纳米图形方法系统

[发明专利]用对激活光透明的模板在衬底上形成图案的方法及半导体器件-CN200510062999.3无效
发明人： T·百利;B·J·周;M·科尔博恩;S·V·斯瑞尼瓦萨恩;C·G·威尔森;J·埃克德特 -专利权人：得克萨斯州大学系统董事会
申请日： 2001-08-01 - 公布日： 2005-11-16 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：说明压印制版工艺中用的模板与衬底之间间隙和取向的高精度测量方法。这里提供的间隙和取向测量方法包括采用基于宽带光的测量技术。
激活透明模板衬底形成图案方法半导体器件

[发明专利]用于室温下低压微刻痕和毫微刻痕光刻的模板-CN01820435.X有效
发明人：崔炳镇;S·V·斯里尼瓦桑;T·贝利;M·科尔伯恩;C·G·威尔森;J·埃克尔特 -专利权人：德克萨斯州大学系统董事会
申请日： 2001-10-12 - 公布日： 2004-09-22 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明公开刻痕光刻的模板、形成和使用该模板的方法，以及模板夹持器装置。一刻痕光刻模板可包括带有在本体表面上的多个下凹的本体。本体可以是对触发光基本透明的材料。多个下凹的至少一部分可形成具有特征尺寸约小于250nm的容貌。一模板可这样形成：获得基本上对于触发光透明的材料和在模板的表面上形成多个下凹。在某些实施例中，一模板还可包括至少一个对齐标志。在某些实施例中，一模板还可包括一间隙检测区域。一刻痕光刻模板可用来在衬底上的光致固化液体内形成一刻痕层。在使用过程中，模板可放置在一模板夹持器内。该模板夹持器可包括一带有构造成接纳模板的开口的本体、一支承板，以及连接到本体上的至少一个压电致动器。在使用中，压电致动器可构造成改变模板的物理尺寸。
用于室温低压刻痕光刻模板

[发明专利]影印用于平版印刷工艺中的自动化液体分配的方法和系统-CN01815560.X有效
发明人： B·J·周;M·科尔博恩;S·V·斯瑞尼瓦萨恩;T·百利;C·G·威尔森;J·埃克德特 -专利权人：得克萨斯州大学系统董事会
申请日： 2001-07-17 - 公布日： 2003-11-12 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：公开了一种在平版印刷过程中用于在平坦材料的表面，或包括半导体晶片的基片上分配液体的自动化液体分配方法和系统。该分配方法使用可以在液体分配器尖端和基片之间产生相对横向运动的液体分配器和基片台。还描述了一种用于使用基本上无图案的平坦模板在基片上创建平坦表面的方法和装置。
影印用于平版印刷工艺中的自动化液体分配方法系统

[发明专利]压印制版用的透明模板与衬底之间间隙和取向的高精度控测方法-CN01815367.4无效
发明人： T·百利;B·J·周;M·科尔博恩;S·V·斯瑞尼瓦萨恩;C·G·威尔森;J·埃克德特 -专利权人：得克萨斯州大学系统董事会
申请日： 2001-08-01 - 公布日： 2003-11-05 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：说明压印制版工艺中用的模板与衬底之间间隙和取向的高精度测量方法。这里提供的间隙和取向测量方法包括采用基于宽带光的测量技术。
压印制版透明模板衬底之间间隙取向高精度方法

1
共 15 条