“A·M·科沃克”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果5个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]光致抗蚀剂组合物和方法-CN201811634448.3有效
发明人： J·凯茨;T·马兰戈尼;E·阿卡德;A·M·科沃克;李明琦;T·卡多拉西亚;C-B·李;K·杨;刘骢 -专利权人：罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2018-12-29 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：提供新型光致抗蚀剂和面涂层组合物，其适用于各种应用。在一个方面，提供新型光致抗蚀剂组合物，其包含：(a)第一基质聚合物；(b)一种或多种酸产生剂；和(c)一种或多种式(I)和/或(II)的添加剂化合物。
光致抗蚀剂组合方法

[发明专利]光致抗蚀剂组合物和形成电子装置的相关方法-CN201510649917.9有效
发明人： P·J·拉博姆;V·吉安;S·M·科莱;J·W·萨克莱;J·F·卡梅伦隆;A·M·科沃克;D·A·瓦莱里 -专利权人：罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2015-10-09 - 公布日： 2020-01-14 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：光致抗蚀剂组合物包括第一聚合物，其中至少一半的重复单元是光酸产生重复单元；和第二聚合物，其在酸的作用下在碱性显影剂中展现溶解度的变化。在所述第一聚合物中，所述光酸产生重复单元中的每一个包含光酸产生官能团和碱溶解度增强官能团。
聚合物光酸光致抗蚀剂组合物碱性显影剂碱溶解度溶解度

[发明专利]包含具有光酸产生官能团和碱溶解度增强官能团的重复单元的聚合物和相关光致抗蚀剂组合物和电子装置形成方法-CN201510650702.9有效
发明人： V·吉安;P·J·拉博姆;J·W·萨克莱;J·F·卡梅伦隆;S·M·科莱;A·M·科沃克;D·A·瓦莱里 -专利权人：罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2015-10-09 - 公布日： 2019-04-30 - 主分类号： C08F120/38 文献下载
摘要：聚合物包括重复单元，所述重复单元中的至少一半是光酸产生重复单元。所述光酸产生重复单元中的每一个包括光酸产生官能团和碱溶解度增强官能团。所述聚合物适用作光致抗蚀剂组合物的组分，所述光致抗蚀剂组合物进一步包括在酸的作用下在碱性显影剂中展现溶解度的变化的第二聚合物。
包含有光产生官能团溶解度增强重复单元聚合物相关光致抗蚀剂组合电子装置

[发明专利]包含具有光酸产生官能团和碱溶解度增强官能团的重复单元的聚合物和相关光致抗蚀剂组合物和电子装置形成方法-CN201510650560.6有效
发明人： P·J·拉博姆;V·吉安;J·W·萨克莱;J·F·卡梅伦;S·M·科莱;A·M·科沃克;D·A·瓦莱里 -专利权人：罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2015-10-09 - 公布日： 2019-04-30 - 主分类号： C08F120/38 文献下载
摘要：聚合物包括重复单元，所述重复单元中的大部分是光酸产生重复单元。所述光酸产生重复单元中的每一个包括光酸产生官能团和碱溶解度增强官能团。所述光酸产生重复单元中的每一个包含阴离子和光酸产生阳离子，所述阴离子和所述光酸产生阳离子全体地具有结构(I)其中q、r、R¹、m、X和Z^‑是如本文中所定义。所述聚合物适用作光致抗蚀剂组合物的组分，所述光致抗蚀剂组合物进一步包括在酸的作用下在碱性显影剂中展现溶解度的变化的第二聚合物。
包含有光产生官能团溶解度增强重复单元聚合物相关光致抗蚀剂组合电子装置

[发明专利]图案处理方法-CN201611096581.9在审
发明人： J·K·朴;李明琦;A·M·科沃克;P·D·休斯塔德 -专利权人：罗门哈斯电子材料有限责任公司;陶氏环球技术有限责任公司
申请日： 2016-12-02 - 公布日： 2017-06-16 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：图案处理方法包含(a)提供半导体衬底，所述半导体衬底在其表面上包含图案化特征；(b)将图案处理组合物涂覆到所述图案化特征上，其中所述图案处理组合物包含聚合物，所述聚合物包含用于与所述图案化特征的表面形成键的表面附着基团，及溶剂，并且其中所述图案处理组合物不含交联剂；(c)用第一冲洗剂自所述衬底去除残余图案处理组合物，留下在所述图案化特征的所述表面上方并且结合到所述图案化特征的所述表面的所述聚合物的涂层；及(d)用与所述第一冲洗剂不同的第二冲洗剂冲洗所述经聚合物涂布的图案化特征，其中所述聚合物在所述第一冲洗剂中的溶解性比在所述第二冲洗剂中大。所述方法尤其适用于制造提供高分辨率图案的半导体装置。
图案处理方法