专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果8个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]转换平台-CN201910173554.4有效
  • P·E·黑曾;A·沃拉;D·延迪格里 - 埃森哲环球解决方案有限公司
  • 2019-03-07 - 2023-08-29 - G06Q10/0639
  • 本公开的实施例涉及转换平台。一种设备可以接收针对服务管理计划的请求,该服务管理计划将被用于为组织实现完全集成的企业资源计划(ERP)系统。设备可以接收与组织相关联的组织数据。设备可以基于组织数据确定用作针对与组织的系统的当前状态相关联的缺陷的假设的观察。设备可以基于观察来标识优先级,该优先级定义针对要被生成的完全集成的ERP系统的目标状态。设备可以基于对观察和优先级的机器学习驱动的分析来选择针对完全集成的ERP系统的配置的推荐。设备可以基于推荐生成针对组织的服务管理计划。设备可以执行一组动作以使配置被实现。
  • 转换平台
  • [发明专利]用于极紫外光刻的聚合物刷-CN201880054272.6在审
  • D·高尔德法尔博;M·克劳德;A·沃拉 - 国际商业机器公司
  • 2018-08-10 - 2020-04-10 - C08F4/00
  • 本发明公开了一种具有多个重复单元的聚合物刷,其中重复单元的一些部分具有一个或多个接枝基团,一些部分具有一个或多个界面调节基团。接枝基团是基于无机基底的特性选择的,界面调节基团是基于将与该基团相互作用的光致抗蚀剂的特性选择的。还公开了一种光刻图案化工艺和包括至少一个通过该光刻图案化工艺形成的集成电路的电子设备。该工艺包括提供无机基底,将所公开的聚合物刷沉积到该无机基底上,以及将光致抗蚀剂沉积到该聚合物刷上。该工艺还包括用具有图案的光掩模掩蔽光致抗蚀剂,并对掩蔽的光致抗蚀剂施加能量以形成蚀刻掩模。然后蚀刻无机基底。
  • 用于紫外光刻聚合物

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top